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在非懸掛式超低損耗厚硅基光電子平臺(tái)中實(shí)現(xiàn)受激布里淵散射

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發(fā)表于 2024-12-3 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言! R+ `1 P6 {1 R, \0 Y
硅基光電子技術(shù)憑借與CMOS工藝的兼容性和高度集成特性,已經(jīng)在集成光學(xué)領(lǐng)域展現(xiàn)突出優(yōu)勢(shì)。在各種非線性光學(xué)現(xiàn)象中,受激布里淵散射(SBS) - 一種光波與聲波之間的相互作用 - 在窄線寬激光器和微波光子應(yīng)用方面具有重要應(yīng)用價(jià)值。但是,在傳統(tǒng)的硅基光電子平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)SBS面臨著重大挑戰(zhàn),主要是由于常規(guī)硅納米線中光聲重疊度較低[1]。/ f0 h2 B' B- ]3 P% d+ O/ [
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圖1:硅基光電子平臺(tái)概述和場(chǎng)分布。(a)展示了不同SBS實(shí)現(xiàn)方案的硅基光電子平臺(tái),(b)顯示了納米線中的場(chǎng)泄漏現(xiàn)象,(c)展示了厚硅基光電子波導(dǎo)中改善的場(chǎng)限制效果。, D( Q. n0 Y2 y6 t

$ q: c& r( h/ p, w: x, l聲波限制原理8 r) h* z: t' D+ e! R
實(shí)現(xiàn)高效SBS的關(guān)鍵在于確保光波和聲波之間的強(qiáng)烈重疊。雖然硅的高折射率(n=3.45)通過全反射實(shí)現(xiàn)了優(yōu)秀的光場(chǎng)限制,但聲波的導(dǎo)引卻更具挑戰(zhàn)性。這是因?yàn)楣柚械穆曀?8500 m/s)高于二氧化硅(5960 m/s),導(dǎo)致傳統(tǒng)設(shè)計(jì)中的聲波會(huì)泄漏到襯底中。
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圖2:厚硅基光電子波導(dǎo)中的聲波行為。(a)解釋了聲波限制機(jī)制,(b)顯示了聲學(xué)模式色散對(duì)比,(c)展示了位移場(chǎng)模擬結(jié)果,(d)展示了不同類型波導(dǎo)的模擬SBS響應(yīng)。: O) h9 x8 Z( {3 n

8 B# y! e( ]* Z$ H# c& o2 E; B- X. X2 `7 |厚硅基光電子平臺(tái)為這一挑戰(zhàn)提供了獨(dú)特的解決方案。通過將波導(dǎo)尺寸增加到3微米厚度,即使在沒有全反射的情況下也能實(shí)現(xiàn)更好的聲波限制。這是因?yàn)榭v向聲波在波導(dǎo)-包層界面處以近掠射角入射時(shí)會(huì)發(fā)生強(qiáng)烈反射,類似于空芯光纖中的光導(dǎo)引原理。
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" m- e9 Z- D& C3 G, b; ?/ J; K& ^平臺(tái)特性與實(shí)現(xiàn)
* O. B7 ^! x& cVTT技術(shù)研究中心開發(fā)的厚硅基光電子平臺(tái)使用3微米厚的硅層,采用精確的制造工藝。這包括步進(jìn)光刻、電感耦合等離子體反應(yīng)離子刻蝕、氫退火處理以減少側(cè)壁粗糙度,以及低壓化學(xué)氣相沉積二氧化硅包層。
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圖3:厚硅基光電子平臺(tái)的物理實(shí)現(xiàn)。(a)顯示了制造結(jié)構(gòu)的顯微鏡圖像,包括螺旋和環(huán)形諧振器,(b)顯示了環(huán)形諧振器的諧振特性測(cè)量結(jié)果。
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該平臺(tái)支持單模肋型波導(dǎo)和多模條型波導(dǎo)。這種多樣性,結(jié)合不同類型波導(dǎo)之間的絕熱耦合器,使復(fù)雜、大規(guī)模光電子集成線路的制造成為現(xiàn)實(shí)。與傳統(tǒng)納米線相比,這些波導(dǎo)較大的模式面積顯著降低了雙光子吸收和自由載流子吸收導(dǎo)致的非線性損耗。, q8 l* m! @! S1 d
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實(shí)驗(yàn)表征
" `- l5 w! U7 b: m1 `/ d" |9 z研究人員采用了精密的三重強(qiáng)度調(diào)制泵浦-探測(cè)鎖相放大設(shè)置來表征厚硅基光電子波導(dǎo)中的SBS響應(yīng)。這種配置允許精確測(cè)量布里淵增益,同時(shí)補(bǔ)償功率波動(dòng)。6 m( b5 g1 l. @' `$ f

6 ~5 h9 Y1 S  M圖4:SBS表征設(shè)置和結(jié)果。(a)顯示了實(shí)驗(yàn)設(shè)置示意圖,(b)展示了不同波導(dǎo)配置的測(cè)量SBS信號(hào),(c)顯示了對(duì)比用的模擬響應(yīng)。
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測(cè)量結(jié)果顯示,肋型和條型波導(dǎo)在37.6 GHz附近都有明顯的SBS信號(hào)。2.5微米寬的肋型波導(dǎo)獲得了1.7 m?1W?1的布里淵增益系數(shù),線寬為70 MHz。3.0微米寬的肋型波導(dǎo)增益提高到1.9 m?1W?1,線寬為57.5 MHz。條型波導(dǎo)展現(xiàn)了最高的增益系數(shù)2.5 m?1W?1,線寬為81.5 MHz。
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優(yōu)化與發(fā)展方向
5 O9 z  o% ^7 d9 T( N通過精心設(shè)計(jì)波導(dǎo)尺寸,可以進(jìn)一步優(yōu)化布里淵增益系數(shù)。這涉及聲波限制和有效模式面積之間的平衡。/ H# L8 E  X+ w: s' m: b/ D8 N" G

* q* v/ [( e1 a& H+ p7 c圖5:優(yōu)化研究顯示了條型波導(dǎo)尺寸與布里淵增益系數(shù)之間的關(guān)系。
! i5 K$ a- E6 \& B& B- r5 k# f6 z' u5 F$ B
厚硅基光電子平臺(tái)中增強(qiáng)的布里淵增益系數(shù)和超低光學(xué)損耗的獨(dú)特組合為實(shí)際應(yīng)用提供了新的機(jī)會(huì)。較高的布里淵頻移使該平臺(tái)在通過SBS聲子激射過程產(chǎn)生純毫米波信號(hào)方面具有優(yōu)勢(shì)。  `) n# h2 _0 N' l
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此外,展示的傳輸損耗低至6.7 dB/m - 潛在可降至2.9 dB/m - 比最先進(jìn)的硅納米線提升了一個(gè)數(shù)量級(jí)。這種超低損耗特性,結(jié)合觀察到的SBS響應(yīng),使厚硅基光電子平臺(tái)在實(shí)現(xiàn)非懸掛式、超低損耗硅基光電子系統(tǒng)中的布里淵應(yīng)用方面展現(xiàn)出優(yōu)異性能。
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, Z. t1 C* L  Y; r: C. [在非懸掛式厚硅基光電子波導(dǎo)中實(shí)現(xiàn)SBS是硅基光電子技術(shù)發(fā)展中的重要進(jìn)展。這為懸掛結(jié)構(gòu)提供了一種穩(wěn)健、易于制造的替代方案,同時(shí)保持了實(shí)用水平的布里淵增益。該平臺(tái)與標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的兼容性及大規(guī)模集成潛力,使其在電信、信號(hào)處理和傳感系統(tǒng)等實(shí)際應(yīng)用中具有顯著優(yōu)勢(shì)。
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參考文獻(xiàn)6 J- ^7 T; B- ]7 c% ~5 A& \4 m& X. R
[1] K. Ye et al., "Stimulated Brillouin scattering in a non-suspended ultra-low-loss thick-SOI platform," arXiv:2410.19083v1 [physics.optics], Oct. 2024.) m, d! c8 L9 m/ o( V, Y

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