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引言0 i; M* X j, }" I' x3 u& O
硅基光電子技術(shù)在開發(fā)高速、緊湊和經(jīng)濟高效的光收發(fā)器方面表現(xiàn)出巨大潛力。本文探討了在硅上異質(zhì)集成的外調(diào)制寬可調(diào)諧激光器及集成半導體光放大器(SOA)的進展[1],討論這些器件的設計、制造和性能特征,這些對城域網(wǎng)和接入網(wǎng)中的密集波分復用(DWDM)應用非常重要。0 N! ^6 P; P/ B7 @. c% I* n, B7 a* k1 Y
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5 m" k [% s( m6 y3 U$ o器件結(jié)構(gòu)和制造
" o P, r" f& q# R% p討論的器件是一種異質(zhì)集成的III-V/Si發(fā)射器,結(jié)合了寬可調(diào)諧激光器、電吸收調(diào)制器(EAM)和SOA放大器。
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4 c- j E1 D; E4 \圖1展示了器件結(jié)構(gòu)和關(guān)鍵組件。
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1 Z% [& x" @$ C- i/ H3 k發(fā)射器制造在硅絕緣體(SOI)平臺上,具有500 nm厚的晶體硅層和2 μm埋氧層(BOX)。SOI晶圓經(jīng)過蝕刻形成兩種不同高度的硅波導:300 nm用于維尼爾濾波器、薩格納克鏡和垂直光柵耦合器,500 nm用于III-V波導下方的硅波導插入器。
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4 l/ O/ u) c$ O& P. uIII-V外延結(jié)構(gòu)包括由P型摻雜InP、AlGaInAs多量子阱(MQW)有源區(qū)和N型摻雜InP層組成的PIN結(jié)。這些層通過金屬有機化學氣相外延(MOVPE)生長,并直接鍵合到預先圖形化的SOI晶圓上。) r4 W t1 c" y+ N ^
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發(fā)射器的主要組件包括:7 n# \$ z: W" Q
寬可調(diào)諧激光器:使用雙程環(huán)形維尼爾濾波器,包含兩個跑道型諧振器。電吸收調(diào)制器(EAM):利用量子限制斯塔克效應(QCSE)實現(xiàn)高速調(diào)制。半導體光放大器(SOA):提供光學放大以補償調(diào)制器損耗。垂直光柵耦合器:實現(xiàn)使用光纖進行晶圓級測試。
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靜態(tài)特性
: N, k- ?2 F8 Y0 D通過測量片上輸出功率、電壓-電流(V-I)特性和波長可調(diào)性評估了發(fā)射器的靜態(tài)性能。 q* b0 m( P7 I- F- c
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/ F1 T! O! z1 u# f6 g圖2. (a) 在不同ISOA值下測量的可調(diào)諧激光器的L-I特性。(b) 測量的激光器V-I響應和熱加熱器的V-I響應(插圖)。(c) 在不同波長下,EAM的光吸收隨反向偏置電壓的變化。(d) 寬可調(diào)諧激光器在不同操作模式下的疊加光譜,顯示了EAM可操作的波長范圍(彩色線條)。
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小信號分析9 m6 E7 s( x/ j" E1 D5 S
為評估集成EAM的電光(EO)帶寬,使用矢量網(wǎng)絡分析儀進行了小信號頻率響應測量。; E$ B4 @7 z+ v& c( t! u/ Z- y
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" C/ u% P1 C1 ^圖3顯示了三種不同調(diào)制器長度(100 μm、150 μm和200 μm)的EAM的EO帶寬。測量在1551 nm波長下進行,偏置電壓為-3 V。結(jié)果表明,將調(diào)制器長度從200 μm減少到100 μm幾乎使帶寬翻倍,從20 GHz增加到38 GHz。
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高速數(shù)據(jù)傳輸$ a8 O7 i" D$ m
通過比特誤碼率(BER)測量和眼圖分析,在各種數(shù)據(jù)速率和傳輸距離下評估了發(fā)射器的性能。. ~" v6 t6 ^0 a
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32 Gbps NRZ傳輸:
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圖4展示了在不同波長和傳輸距離(最遠10 km)下使用標準單模光纖(SSMF)進行的32 Gbps BER測量結(jié)果。測量在六個波長進行:1542 nm、1545 nm、1548 nm、1551 nm、1554 nm和1557 nm。在大多數(shù)測試波長下,背靠背(B2B)配置和最遠2 km傳輸距離都實現(xiàn)了無錯誤傳播。, W0 h' ?& C% n1 {/ @( w1 V/ K
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動態(tài)消光比(DER)從最佳傳輸波長(1554 nm)的8.5 dB變化到1542 nm的4.5 dB。對于1554 nm波長,在B2B測試中,BER為10^-12時達到約-5.5 dBm的接收功率靈敏度。
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50 Gbps及以上3 l0 t1 T, b2 g9 R4 g6 s" z
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圖5展示了在1550 nm波長B2B配置下50 Gbps調(diào)制的開放眼圖,動態(tài)消光比為4.7 dB。) J6 O* D; T0 @6 ?0 F6 ]. k: s
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7 O% y! s6 L. M7 U c' R5 i) y圖6分別展示了56 Gbps NRZ調(diào)制的電輸入信號和光輸出眼圖。光學眼圖顯示4 dB的動態(tài)消光比,由于RF放大器在50 GHz以上性能的限制,出現(xiàn)一些信號失真和抖動。$ s% |1 _' y( x. S3 m* A+ ~9 B9 [
+ D2 f; |1 c+ P( m' H5 l設計考慮和權(quán)衡:調(diào)制器長度:減小EAM長度可增加帶寬但降低消光比。100 μm的EAM在56 Gbps操作時在速度和消光比之間提供了良好平衡。波長調(diào)諧范圍:光學帶寬在短波長端受EAM吸收帶邊緣限制,在長波長端受激光器增益譜限制。啁啾管理:通過微調(diào)EAM偏置電壓和SOA電流可實現(xiàn)部分啁啾補償,與直接調(diào)制激光器或無SOA放大器的EML相比,允許更長的傳輸距離。功耗:器件在激光器和SOA部分使用適度電流水平(65-80 mA),EAM反向偏置電壓為-2.5 V。集成挑戰(zhàn):對所有組件(激光器、EAM和SOA)使用單一III-V外延堆疊簡化了制造,但需要仔細設計以優(yōu)化所有部分的性能。3 B. ?/ C# ]) t8 l& Z
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: |/ ~3 z( [+ |) l; w$ ?結(jié)論
" J) M; P& e; c; P; Q1 O" W4 G本文探討了硅基光電子平臺上高速外調(diào)制寬可調(diào)諧激光器及集成SOA的設計、制造和性能。這些器件展示了令人印象深刻的能力,包括:
' z! V5 F0 Y4 ]寬波長調(diào)諧范圍(40 nm)和穩(wěn)定的單模操作高片上輸出功率(最高5 mW)在各種距離(最遠8 km)下32 Gbps無錯誤傳輸高達56 Gbps數(shù)據(jù)速率的開放眼圖8 ?5 Y9 C3 K, L5 a8 \+ b
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III-V材料在硅基光電子上的集成在可擴展性、成本效益和與現(xiàn)有CMOS制造設施兼容性方面提供了顯著優(yōu)勢。隨著該領(lǐng)域研究的繼續(xù)推進,我們可以期待性能、功率效率和集成密度的進一步提高,為下一代光通信系統(tǒng)奠定基礎。/ D* k- D g1 [& ^( r2 i M
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未來研究方向可能集中在提高超過56 Gbps的調(diào)制速度、改善啁啾管理以實現(xiàn)更長傳輸距離,以及探索PAM-4等先進調(diào)制格式。
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參考文獻4 X' U. b& x H. Z3 f
[1] Souleiman et al., "56 Gbps externally modulated widely tunable lasers with SOA boosters heterogeneously integrated on silicon," Opt. Express, vol. 32, no. 21, pp. 37036-37045, Oct. 2024.- v; V5 ]0 u& D7 W/ {
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導體芯片設計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設計和仿真軟件,提供成熟的設計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設計與仿真。我們提供特色工藝的半導體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務,廣泛服務于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務。! f7 y& `/ U& S/ z
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