本視頻教學(xué)以allegro1 6.6和IMX6為平臺,重點介紹DDR3內(nèi)存的設(shè)計思路,一共四顆DDR3,采用菊花鏈( Fly-By)的拓撲結(jié)構(gòu)。講解了DDR3設(shè)計的信號class分組,信號的同組同層布線、信號時序等長及常用規(guī)則注意事項,信號完整性、電源完整性的規(guī)劃等,讓學(xué)習(xí)者知其然知其所以然,DDR3的設(shè)計看_上去是很高大上的,但是只需要弄懂其中的幾個基本要點,也很簡單的。本視頻采用的8層板設(shè)計,也是大家學(xué)習(xí)多層板的利器。
本視頻錄制是結(jié)合了工程師豐富的項目實戰(zhàn)經(jīng)驗,講述整個DDR3設(shè)計的思路以及各個PCB設(shè)計環(huán)節(jié)中的一些細節(jié)技巧,細節(jié)決定成敗,愿學(xué)習(xí)我們視頻的朋友們,多多注重我們視頻講解的布局思路、布線思路。處理細節(jié),早日成就PCB高手!
學(xué)習(xí)目標
1、掌握PCB設(shè)計常用的設(shè)計技巧及熟悉PCB設(shè)計的整體流程
2、掌握DDR3設(shè)計的知識要點
3、掌握3W原則的PCB設(shè)計
4、了解菊花鏈拓撲結(jié)構(gòu)及設(shè)計規(guī)則
5、掌握蛇形等長走線
課程介紹
1、原理圖簡單講解、網(wǎng)標輸出、錯誤解析
2、DDR菊花鏈拓撲結(jié)構(gòu)布局分析
3、疊層設(shè)置以及阻抗規(guī)則設(shè)置
4、Fanout處理、Class設(shè)置、布線規(guī)劃
5、DDR3數(shù)據(jù)線布線( 1 )
6、DDR3數(shù)據(jù)線布線(2 )
7、DDR3地址、控制線布線(1)
8、DDR3地址、控制線布線(2)
9、 電氣規(guī)則講解與規(guī)則設(shè)置
10、DDR3數(shù)據(jù)線時序等長( 1 )
11、DDR3數(shù)據(jù)線時序等長(2 )
12、DDR3地址、控制線時序等長( 1 )
13、DDR3地址、控制線時序等長(2 )
14、地平面處理與電源平面分割
15、后期絲印處理、文本添加、整板鋪地銅處理
16、gerber文件輸出、貼片文件輸出
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2018-10-31 14:09 上傳
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[size=17.1429px]DDR3的設(shè)計有著嚴格等長要求,歸結(jié)起來分為兩類(以64位的DDR3為例): 數(shù)據(jù) (DQ,DQS,DQM):組內(nèi)等長,誤差控制在20MIL以內(nèi),組間不需要考慮等長;地址、控制、時鐘信號:地址、控制信號以時鐘作參考,誤差控制在100MIL以內(nèi),Address、Control與CLK歸為一組,因為Address、Control是以CLK的下降沿觸發(fā)的由DDR控制器輸出,DDR顆粒由CLK的上升沿鎖存Address、Control總線上的狀態(tài),所以需要嚴格控制CLK與Address/Command、Control之間的時序關(guān)系,確保DDR顆粒能夠獲得足夠的建立和保持時間。
[size=17.1429px]關(guān)注等長的目的就是為了等時,繞等長時需要注意以下幾點:
確認芯片是否有Pin-delay,繞線時要確保Pin-delay開關(guān)已經(jīng)打開; 同組信號走在同層,保證不會因換層影響實際的等時;同樣的換層結(jié)構(gòu),換層前后的等長要匹配,即時等長;不同層的傳播延時需要考慮,如走在表層與走在內(nèi)層,其傳播速度是不一樣的,所以在走線的時候需要考慮,表層走線盡量短,讓其差別盡量。ㄟ@也是為什么Intel的很多GUIDE上面要求,表層的走線長度不超過250MIL等要求的原因); Z軸的延時:在嚴格要求的情況下,需要把Z軸的延時開關(guān)也打開,做等長時需要考慮(ALLEGRO中層疊需要設(shè)置好,Z軸延時才是對的)。 蛇形繞線時單線按3W,差分按5W繞線(W為線寬)。且保證各BUS信號組內(nèi)間距按3H, 不同組組間間距為5H (H為到主參考平面間距),DQS和CLK 距離其他信號間距做到5H以上。
[size=17.1429px]而另一個核心重點便是電源處理。DDR3中有三類電源,它們是VDD(1.5V)、VTT(0.75V)、VREF(0.75V,包括VREFCA和VREFDQ)。
[size=17.1429px] 1. VDD(1.5V)電源是DDR3的核心電源,其引腳分布比較散,且電流相對會比較大,需要在電源平面分配一個區(qū)域給VDD(1.5V);VDD的容差要求是5%,詳細在JEDEC里有敘述。通過電源層的平面電容和專用的一定數(shù)量的去耦電容,可以做到電源完整性。
[size=17.1429px] 2. VTT電源,它不僅有嚴格的容差性,而且還有很大的瞬間電流;可以通過增加去耦電容來實現(xiàn)它的目標阻抗匹配;由于VTT是集中在終端的上拉電阻處,不是很分散,且對電流有一定的要求,在處理VTT電源時,一般是在元件面同層通過鋪銅直接連接,銅皮要有一定寬度(120MIl)。 [size=17.1429px]
[size=17.1429px] 3.VREF電源 ,VREF要求更加嚴格的容差性,但是它承載的電流比較小。它不需要非常寬的走線,且通過一兩個去耦電容就可以達到目標阻抗的要求。DDR3的VERF電源已經(jīng)分為VREFCA和VREFDQ兩部分,且每個DDR3顆粒都有單獨的VREFCA和VREFDQ,因其相對比較獨立,電流也不大,布線處理時也建議用與器件同層的銅皮或走線直接連接,無須在電源平面層為其分配電源。注意鋪銅或走線時,要先經(jīng)過電容再接到芯片的電源引腳,不要從分壓電阻那里直接接到芯片的電源引腳。 [size=17.1429px]
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2018-10-31 14:27 上傳
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