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3D IC集成和封裝概述

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發(fā)表于 2024-10-18 08:02:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
% i8 R' b2 R/ h! I% v' W& f隨著半導(dǎo)體行業(yè)不斷追求在更小尺寸中實現(xiàn)更高性能和更多功能,3D集成技術(shù)已成為有前途的解決方案。本文概述了關(guān)鍵的3D IC集成和封裝技術(shù),包括硅通孔(TSV)、高帶寬內(nèi)存(HBM)以及各種堆疊方法[1]。
, j$ T3 V  f( x
. ]" t* y3 B+ |( u' e1 H' O9 Z3D IC封裝+ l& \# ^$ }! a5 j8 O
3D IC封裝指的是不使用TSV的芯片垂直堆疊。常見的方法有幾種:
8 R- r) E! S6 @: G1. 鍵合:多個芯片堆疊并使用周邊的鍵合線連接。這是成熟的低成本方法,廣泛用于內(nèi)存堆疊(圖1和2)。: M( B; N, ~. N1 }" j
' v! a/ v0 a; A. _/ z( F3 }+ D# }; x. P/ h9 }
0 z2 `' z+ I! t1 r" ]
圖16 @- K* h6 k+ j4 ^' I3 D" l. S

+ a! I' S0 {. [% f 5 @" m8 \# C' ?+ w( L
圖2
: o/ O3 s- Q8 n) i& m* J
* M: ?8 ?7 D0 h+ v& Q' `2. 面對面鍵合: 兩個芯片通過微凸點面對面鍵合,其中一個芯片用鍵合線連接到基板(圖3)。
1 T- i! ]# i) B, k9 ]. m' y/ T6 r% U 6 v! {' Z8 Z, ?% i3 B
圖3
/ I2 E! s# ^+ I. j/ I/ O/ Z' J3 d) H  b$ n* y
3. 背對背鍵合:兩個芯片背對背鍵合,一個芯片倒裝到基板上,另一個用鍵合線連接(圖4)。: x* ?+ S1 O& r* O, @8 J1 o
. ?# k1 Y' Q* }+ D
圖4
: o8 y9 {# Y/ c* P8 H0 P4 h7 p+ U$ L; L' P+ U! _- D; g9 r4 ]! v
4. 面對面鍵合加焊球: 與方法2類似,但使用焊球而不是鍵合線連接到基板(圖5)。
# h: l+ Z' O; d5 H, |& W
" z; p' {/ _; b7 x) `! z2 K圖5
# ~2 V: D3 V4 d* t7 _. y$ i7 I+ D( m; q2 F) N; s4 Z4 k
5. 封裝疊加封裝(PoP): 單獨的封裝垂直堆疊,通常底部是應(yīng)用處理器,頂部是內(nèi)存(圖6)。
8 C( H2 I4 C( O9 s6 x! I
9 G8 {6 _% _6 Y9 [- @' O圖6
* T+ H; Z5 j; p1 Y& W% Y1 j. V, l) n* b
( e. _% G6 e4 j3 s: s9 D6. 嵌入式芯片: 芯片嵌入到封裝基板中(圖7) 。% Z/ @1 Z- O% V+ E( ], Z, o% Z" u
0 K" d5 H0 |$ u( X+ E( u
圖7
1 x# I2 q& I$ l2 G
7 ~; s6 Y3 Y+ G8 I7. 扇出晶圓級封裝: 芯片嵌入到模塑化合物中并重新分布,以實現(xiàn)更高的I/O密度(圖8)。/ U& U1 L9 x6 s+ v" G* F2 i+ P6 j

0 G4 A  Z6 S! y' ^" b圖8+ C3 L* M$ v# s2 ?6 Q! g

9 S0 j$ k1 K( [5 w" ^& v每種方法在電氣性能、熱管理、尺寸和成本方面都有權(quán)衡。選擇取決于具體的應(yīng)用需求。
2 J" M! F' N/ N! W3 I& i$ ]: |4 p5 n1 W
使用TSV的3D IC集成( J/ F8 j; S' ^7 [: f
3D IC集成使用TSV在硅芯片中創(chuàng)建垂直電連接。與傳統(tǒng)封裝方法相比,可實現(xiàn)更高的互連密度和帶寬。關(guān)鍵的3D IC集成技術(shù)包括:
! T$ D  E/ W( D, C6 L- D
2 t: ^9 f5 h# Z' }: s5 F1. 高帶寬內(nèi)存(HBM):HBM使用TSV和微凸點將多個DRAM芯片堆疊在邏輯基礎(chǔ)芯片上(圖9)。與傳統(tǒng)DRAM封裝相比,可提供顯著更高的內(nèi)存帶寬。HBM對高性能計算、AI和圖形應(yīng)用非常重要。+ W0 d) M3 h2 s6 s3 b$ k2 ?

6 ?7 _% G5 `" ]7 Y; o圖94 X( P7 B" c" \2 K# W. r
% h- u. y0 I1 x' N: v8 q; }
2. 芯片疊加晶圓(CoW)堆疊: 單個芯片鍵合到包含TSV的晶圓上的芯片。用于不同類型芯片的異構(gòu)集成。
# W( R4 e6 I: U. ^7 c+ L- W8 L, T
: C& z/ y+ R- n4 ]8 O& u: p3. 晶圓疊加晶圓(WoW)堆疊: 整個晶圓鍵合在一起,TSV提供垂直連接?蓪崿F(xiàn)很高的互連密度,但需要良好的芯片對芯片對準(zhǔn)。
' d: j3 p5 i, ?' x' d4 z& C6 r9 v7 _9 K  b5 @) x4 T" n) V* `+ a& U" Y2 q
4. 基于中間層的集成: 帶有TSV的中間層充當(dāng)中間基板,連接多個芯片。允許混合不同工藝節(jié)點和芯片類型(圖10)。2 L$ r9 e6 H; f$ ]# U$ J4 j
) v$ u6 @% t. {* I% ~: I
圖10; b0 _- u8 p! ^8 f2 }/ \' b
4 Y! z2 ^7 T% I$ X
TSV制造和組裝
/ g1 A  ^! P: I* z0 N/ s8 y& jTSV通常使用"中段硅通孔"或"后段硅通孔"工藝制造:
% r. U. D, Q) E
  • 中段硅通孔:TSV在前端工藝(FEOL)之后但在后端金屬化(BEOL)之前形成。
  • 后段硅通孔: TSV在BEOL之后創(chuàng)建,可以從晶圓正面或背面進(jìn)行。( Q3 d/ y5 t' ^4 w9 B  m# ?

    # u! g; z* b, A. W( Q6 M選擇會影響TSV尺寸和制造工藝流程。中段硅通孔更常用于大批量生產(chǎn)。" {5 M5 {' R( f( G& i0 L- j. V. r

    4 g0 V' F9 B% j/ `帶TSV的3D堆疊組裝通常使用熱壓鍵合(TCB)和銅柱微凸點。通常使用非導(dǎo)電薄膜(NCF)或漿料(NCP)作為底填以提高可靠性。對于HBM堆疊,芯片逐個鍵合,可能限制產(chǎn)量。為解決這個問題,已開發(fā)出同時鍵合多個芯片的集體鍵合方法(圖11)。$ Y2 {( z% t5 E5 u- ?
    - r. j% Q6 l1 L, q2 K4 h- T- r
    圖11
    . T$ k) F0 U2 ~# A, w8 m
    4 W( M/ k8 F' ?( Y先進(jìn)的3D集成:混合鍵合
    0 A4 H4 v# i: B0 X混合鍵合是一種先進(jìn)的互連技術(shù),可以直接鍵合銅墊而無需焊料凸點。與微凸點方法相比,可實現(xiàn)更細(xì)間距的互連。主要優(yōu)勢包括:
    # r+ J8 U  ~; H8 b7 m0 \! N0 @
  • 更高的互連密度
  • 改善的電氣和熱性能
  • 減小封裝高度8 M3 D: e) K( o1 t( B0 \3 Q
    ! w5 D* h9 ?! l- B5 s! Y* S* y
    混合鍵合可用于各種3D集成場景:1 P- M! g& B/ j1 Y/ K
    1. 帶TSV的芯片對芯片: 一個芯片混合鍵合到另一個含TSV的芯片上(圖12和13) 。
    , l% b# r. t4 n* ^
    ' ]1 j: D3 |  o; Y( @+ X" R- G圖120 z! L: \% m" }5 W

    5 n# s. n/ q5 e( K
    , Y$ ^0 L! x2 O圖13. b# C! R, {* g) N$ c4 Z/ W3 n

    2 ]8 w  h* Q6 c; R2. 不帶TSV的芯片對芯片: 用于不需要TSV的應(yīng)用, 如堆疊圖像傳感器(圖14)。) d6 j- k) R& X* F' b% E( F: y
    + `! W( N- x5 Z! R( L- ]
    圖14* B3 ]8 p4 z4 Z8 {) Z. i

    . }& Z6 u' @0 Y: A' V6 p- v3. 芯片對晶圓:單個芯片混合鍵合到晶圓上的芯片。
    9 }: \8 v) _& Q9 g: t5 {
    , d# V( ~" N6 B+ h2 Z4. 晶圓對晶圓: 整個晶圓混合鍵合在一起。
    7 E6 w6 v  G1 L, Z. P* \: N
    5 _) D% Y+ T2 X8 y3 D英特爾、臺積電和三星等主要半導(dǎo)體公司正在積極開發(fā)用于大批量生產(chǎn)的混合鍵合能力。/ T' C/ m- L( Y( y. B
    - e6 b" Y+ C, s
    3D IC的設(shè)計考慮
      s! }, {: A' p  v3D集成帶來了幾個獨特的設(shè)計挑戰(zhàn):
  • 熱管理: 堆疊多個有源芯片會增加功率密度并可能導(dǎo)致熱點。需要仔細(xì)進(jìn)行熱分析并可能使用熱TSV。
  • 供電: 為堆疊中的所有芯片提供穩(wěn)定電源需要考慮TSV的電阻和電感。
  • 測試: 需要新的測試策略來有效測試部分組裝的3D堆疊并隔離缺陷。
  • 信號完整性: TSV和微凸點引入了新的寄生效應(yīng),必須建模和管理。
  • 機(jī)械應(yīng)力: 材料之間熱膨脹系數(shù)(CTE)的差異可能導(dǎo)致翹曲和可靠性問題。
  • 成本: 3D集成工藝增加了成本,必須權(quán)衡性能和尺寸優(yōu)勢。5 W  y/ a* {/ U" c: J
    [/ol]/ J4 ^9 y: }' e# H" [
    能夠處理多芯片場景和TSV/微凸點模型的先進(jìn)封裝設(shè)計工具對成功開發(fā)3D IC非常必要。  K% P2 j$ u3 T3 u

    6 O7 H3 H2 x7 t3 O% D4 m7 j應(yīng)用和未來展望
    ) d; z8 g0 q8 E3 r( n5 Z3D集成技術(shù)在幾個關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域得到越來越多的采用:- E' c/ P( E- |* ~4 d$ f' y
    1. 高性能計算: HBM和先進(jìn)的邏輯疊加邏輯堆疊,用于提高內(nèi)存帶寬和降低延遲。
    5 d! c1 v* {% L" |/ F% X2. 移動設(shè)備: PoP和內(nèi)存疊加邏輯堆疊,用于減小尺寸和提高性能。
    8 F% r) l, F+ M4 ?" I; A& P" M3. 成像: 具有單獨感應(yīng)和處理層的堆疊圖像傳感器。
    3 m+ P+ h9 I- K+ P( d6 o2 b4. 異構(gòu)集成: 結(jié)合不同工藝節(jié)點甚至不同半導(dǎo)體材料(如硅和III-V化合物)的芯片。2 U1 R: B; N1 H: k* K

    " [- X/ i1 X( [* H" k6 O隨著傳統(tǒng)硅縮放變得更具挑戰(zhàn)性和昂貴,3D集成預(yù)計將在繼續(xù)實現(xiàn)類似摩爾定律的整體系統(tǒng)性能和功能縮放方面發(fā)揮越來越重要的作用。
    ) B: I( g7 x& }- a/ [6 z正在進(jìn)行的研究和開發(fā)的關(guān)鍵領(lǐng)域包括:
    4 l# V" M' ]3 [- b+ K
  • 更細(xì)間距的TSV和微凸點
  • 改進(jìn)的熱管理技術(shù)
  • 增強(qiáng)的設(shè)計工具和方法
  • 用于提高可靠性和性能的新材料
  • 通過改進(jìn)制造工藝降低成本# k5 A7 e6 F! L+ v& U( V
    * h- H  V  o- M$ z0 V
    結(jié)論% q8 m8 K/ o- [9 W! d( X
    3D IC集成和先進(jìn)封裝技術(shù)為在傳統(tǒng)2D縮放之外繼續(xù)提高電子系統(tǒng)性能、功能和尺寸提供了很有前途的途徑。盡管仍然存在挑戰(zhàn),特別是在熱管理和成本方面,但潛在的好處正在推動這些技術(shù)的快速發(fā)展。隨著生態(tài)系統(tǒng)的成熟,可以期待看到3D集成在廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的領(lǐng)先半導(dǎo)體產(chǎn)品中變得越來越普遍。- ^2 u, \$ \! F" F7 Y9 }6 q

    * C1 C2 G5 Q" N$ b" V0 [參考文獻(xiàn)
    3 x( |) q; }+ y0 H[1] J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.
    ( T* Q0 e% i7 M) J& ?: d) o# W& }  J0 F. v) U- c
    - END -' w& z' w1 Y1 m" e5 z7 @
    1 ^# L, K7 }" w+ ^- n+ B0 K) F
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    0 ~: A7 Y5 `& K0 |" t1 {. e, Z歡迎轉(zhuǎn)載
    & x  E; D  ~: L5 L# j# Q! _6 w$ b6 _+ g: c: {
    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!4 @: L$ A) i$ h" n
    6 L. k8 h' L/ Z# e. q
    # ?% E" e) T% A6 I: `2 {& ~, E( k

    1 j; d% x$ u  O: [0 \
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    6 g2 q1 L$ }. p$ A0 \! U( k0 n關(guān)注我們
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    3 P! Z5 J9 h* ^7 D0 z$ q

      \  T: m( {4 b3 L9 j % d$ t" B: b$ A, K6 x. v& W5 g

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    $ m2 A1 q. i; C' b1 r8 }- W0 ^1 a ! H3 f. q$ W1 ?; U& r
                         
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    ( F- n2 D1 K( e- s1 X

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    " G& y! u9 Y- Y% r9 N5 B4 N) I關(guān)于我們:0 ~& D- C/ y3 j, L+ m( C9 c
    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
    8 R3 I) \; m" c; K' ]1 f
    ) G" F$ f# ~" f$ U% b" ^http://www.latitudeda.com/. o# _# @6 S8 n$ n3 H
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