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引言隨著芯片架構(gòu)向著數(shù)百個(gè)處理核心的多核方向發(fā)展,傳統(tǒng)的電子網(wǎng)絡(luò)芯片(ENoCs)在滿足不斷增加的核心間通信需求方面面臨挑戰(zhàn)。光子網(wǎng)絡(luò)芯片(PNoCs)作為一種有前途的替代方案出現(xiàn),提供了接近光速的信號(hào)傳播、高帶寬密度和低動(dòng)態(tài)功耗等優(yōu)勢(shì)。然而,PNoCs也面臨自身的挑戰(zhàn)。影響PNoCs長(zhǎng)期可靠性和能源效率的一個(gè)關(guān)鍵問題是微環(huán)諧振器(MRs)的電壓偏置溫度誘導(dǎo)(VBTI)老化,這些MRs是光子鏈路中的關(guān)鍵組件。" J0 x/ P6 g- X8 d8 J
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本文概述了PNoCs中的VBTI老化效應(yīng),解釋了其對(duì)系統(tǒng)性能和能源效率的影響,并討論了緩解技術(shù),重點(diǎn)關(guān)注4脈沖幅度調(diào)制(4-PAM)信號(hào)作為一種主動(dòng)解決方案。0 o, E% g" G! @- L
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微環(huán)諧振器中的VBTI老化機(jī)制
, N; z) h9 w$ Y: @# Z微環(huán)諧振器是PNoCs中用作調(diào)制器、接收器和開關(guān)的緊湊型、波長(zhǎng)選擇性器件。在硅核中包含一個(gè)PN結(jié),在周圍的二氧化硅包層中包含一個(gè)微加熱器。MR的共振波長(zhǎng)可以通過操縱PN結(jié)的電壓偏置來改變自由載流子濃度,或通過操縱微加熱器的電壓偏置來改變局部溫度進(jìn)行調(diào)整。3 r) {9 D' m! Q
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圖1:具有PN結(jié)的可調(diào)諧MR橫截面,用于通過電壓偏置實(shí)現(xiàn)載流子注入和耗盡。) K$ p8 Q) |3 ~7 T
O8 l* S3 q: v7 v8 d) q, Y7 k3 M
當(dāng)在MR的PN結(jié)上施加負(fù)電壓時(shí),會(huì)在Si-SiO2界面產(chǎn)生電場(chǎng)。這個(gè)電場(chǎng)與熱變化相結(jié)合,隨時(shí)間推移導(dǎo)致在這些界面上產(chǎn)生陷阱,類似于MOSFET中的老化過程。這種現(xiàn)象被稱為VBTI老化。0 Q: b" s* H. {" z _: l
/ A* \+ F) K" p/ v陷阱生成機(jī)制可以用以下化學(xué)反應(yīng)表示:! k" \; I- `/ U$ S8 e U; j% L( D
& ?4 o/ P: C" O' K! f3 J+ B* E: LSi-H + h+ → Si* + H9 A7 B" Q; N! r# a) ^
% L; u' V6 T9 X* B其中h+代表MR的Si核中的空穴,Si-H是硅-氫鍵,Si*是產(chǎn)生的硅懸掛鍵,作為類似施主的界面陷阱。* J+ F! Y4 A. ~. k* }
5 o4 _( q6 ?, j/ k+ R4 H( I
VBTI老化對(duì)MR特性的影響
! {& R! e" r$ D/ NVBTI老化主要通過兩種方式影響MR特性:共振紅移:隨著界面陷阱增加,MR核心中的空穴濃度減少,導(dǎo)致核心的折射率增加。這導(dǎo)致MR的共振波長(zhǎng)發(fā)生紅移。共振通帶展寬:MR核心與周圍環(huán)境之間折射率對(duì)比度的增加導(dǎo)致光散射損失增加,從而導(dǎo)致MR的Q因子降低(即共振通帶寬度增加)。
2 E7 Q. W& j! s ~* Z8 [ B- N8 X1 |, f[/ol]
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圖2:在三個(gè)工作溫度300 K、350 K和400 K下,共振波長(zhǎng)紅移(ΔλRWRS)和QA隨時(shí)間的變化。% U2 V3 y( g: F3 ^
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圖3:在四個(gè)偏置電壓-2 V、-4 V、-6 V和-8 V下,QA和共振波長(zhǎng)紅移(ΔλRWRS)隨工作時(shí)間的變化。
9 E/ |$ F1 o3 d" \ S( }, I* X
! {% D+ Q: e3 d- E3 H: K7 j這些圖表顯示,更高的工作溫度和電壓偏置水平會(huì)加速M(fèi)Rs中的VBTI老化。5 Y6 p2 w8 ?1 F
0 \# {1 c; j' z+ L& LVBTI老化對(duì)基于DWDM的OOK鏈路的影響
3 B! Q3 R3 M# A為了理解VBTI老化對(duì)基于密集波分復(fù)用(DWDM)的開關(guān)鍵控(OOK)鏈路的影響,我們需要檢查源節(jié)點(diǎn)和目標(biāo)節(jié)點(diǎn)的效應(yīng)。
& Y9 w O. L5 U2 [ V) |/ z6 t" |$ p F
在源節(jié)點(diǎn):5 v# ]. b: u% |
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圖4說明:頻域中示例源節(jié)點(diǎn)的圖示(a)老化前和(b)老化后。! V$ g0 H& U" c6 a
+ I1 q% M3 b' M8 s: g
VBTI老化導(dǎo)致調(diào)制器MRs的共振發(fā)生紅移并增加通帶寬度。這導(dǎo)致信號(hào)頻譜與MRs共振波長(zhǎng)之間的不對(duì)準(zhǔn),從而導(dǎo)致調(diào)制效率降低和互調(diào)串?dāng)_增加。8 V& y% [9 i" I& x
1 n, q9 r) q3 q- W. u9 c在目標(biāo)節(jié)點(diǎn):
5 B( D& L# Q; q4 z' |. \4 f
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+ X0 ~& [+ q2 N- v
圖5:頻域中示例目標(biāo)節(jié)點(diǎn)的圖示(a)老化前和(b)老化后。 E( p' G: n% Y% I$ u+ A
6 D$ D; D8 }: h8 w2 ]! a0 |4 A
老化引起的接收器MRs變化加劇了兩種現(xiàn)象:信號(hào)側(cè)帶截?cái)啵?/strong>MR通帶與信號(hào)頻譜之間的不完全頻譜重疊。外差串?dāng)_:MR通帶與相鄰非共振信號(hào)頻譜的部分重疊。8 U) ^, U$ z/ g% I0 C2 F
[/ol]( d* o t3 k! M. G2 j
這些效應(yīng)導(dǎo)致信號(hào)退化和濾波/接收光信號(hào)的平均頻譜功率衰減。( O |( Z' q: J4 ]& J* X) f8 y3 J+ a: D
2 V) U3 V) T; S0 u1 L$ l5 p9 a緩解VBTI老化影響
4 ~; q# Q4 m+ o! o; \! B/ J8 O% Y有兩種主要方法來緩解VBTI老化影響:反應(yīng)式和主動(dòng)式技術(shù)。
' y3 |( a4 ^5 E$ G8 g& z- i1 R
% ?0 `: d. e2 V7 f. F( i8 I) Z- \ l" _1. 反應(yīng)式緩解:
8 H; h* R* z; y; X局部修整:這種技術(shù)可以通過在MRs共振中引入藍(lán)移來抵消老化引起的共振紅移。但是,可能會(huì)導(dǎo)致MR通帶進(jìn)一步展寬。串?dāng)_緩解技術(shù):先前的工作提出了各種方法,但通常會(huì)帶來顯著的性能和/或面積開銷。" c( \3 o- k. r) e
" L9 ]9 R, T# M! H2. 主動(dòng)緩解:4-PAM信號(hào)! `7 J$ l N3 [$ A, p# C
4-PAM信號(hào)作為一種有前途的低開銷技術(shù),可主動(dòng)緩解VBTI老化影響。
1 h/ b+ R; i& A' {. J5 D' M* u* G: o
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圖6:(a)開關(guān)鍵控(OOK)信號(hào)方法和(b)四脈沖幅度調(diào)制(4-PAM)信號(hào)方法的時(shí)域表示圖示。
: x% D0 A( j$ c6 f ~! t% ?, W
* ?( x+ J% z# k# r# C v4-PAM使用四個(gè)光傳輸級(jí)別在一個(gè)數(shù)據(jù)符號(hào)中表示兩位信息,在給定信號(hào)波特率的情況下,有效地將帶寬翻倍。, [) V: @4 _7 t1 A/ b% g* _
- c# A R$ d' O2 c
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8 d9 Z7 D6 F3 H* {8 U圖7:頻域中(a)基于OOK和(b)基于4-PAM的目標(biāo)節(jié)點(diǎn)圖示。
1 C" b& d1 ~+ X; l3 x# ]/ a% W9 K8 M8 w" C1 W5 s- y( y
4-PAM信號(hào)在緩解VBTI老化效應(yīng)方面的主要優(yōu)勢(shì)是:+ e% q( W/ H' H
更寬的信道間隔:4-PAM允許相鄰波長(zhǎng)信道之間的信道間隔增加兩倍,自然最小化外差串?dāng)_。主動(dòng)防范串?dāng)_:更寬的間隔為VBTI老化引起的MRs共振通帶展寬所導(dǎo)致的加劇串?dāng)_效應(yīng)提供了緩沖。 p }, h; {6 F# X# x9 ^: T
) c* M+ y. ]' W! n0 C4 `評(píng)估結(jié)果
- R1 @4 a5 P3 v: Q2 i為了展示4-PAM信號(hào)在緩解VBTI老化影響方面的有效性,比較了CLOS PNoC架構(gòu)的兩種變體:CLOS-OOK(使用傳統(tǒng)OOK信號(hào))和CLOS-4PAM(使用4-PAM信號(hào))。5 L6 s2 o+ w; \1 j: |' k9 F+ p* B
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, W5 _1 C- R/ y7 m& u' x; N$ l( r7 \圖8:CLOS-OOK和CLOS-4PAM PNoCs在1年、3年和5年老化后在100個(gè)PV圖上的最壞情況信號(hào)功率損失。3 t, \8 b7 ~1 F3 F( S( m3 Y1 V
$ [1 o0 }1 [# c
主要觀察結(jié)果:
R- P8 `' Q) o; RVBTI老化隨時(shí)間增加CLOS-OOK和CLOS-4PAM PNoCs的最壞情況信號(hào)功率損失。在老化條件下,CLOS-4PAM PNoC始終表現(xiàn)出比CLOS-OOK PNoC更低的信號(hào)功率損失。
! _; W: t. c" ]2 @. E
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% ]1 B/ s+ J8 b
圖9:基線CLOS-OOK和CLOS-4PAM PNoCs與經(jīng)過3年VBTI老化的變體在PARSEC基準(zhǔn)測(cè)試中考慮100個(gè)PV圖的每比特能耗(EPB)比較。) o3 B: x+ }5 V1 p C
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$ w" f$ {9 Y9 r9 N! c$ q# m1 I圖10:基線CLOS-OOK和CLOS-4PAM PNoCs與經(jīng)過5年VBTI老化的變體在PARSEC基準(zhǔn)測(cè)試中考慮100個(gè)PV圖的每比特能耗(EPB)比較。6 _" P6 Y B7 e; W/ f
; u! o4 l6 O3 t這些結(jié)果表明:' w0 \8 q# o9 v' E$ p
VBTI老化增加了CLOS-OOK和CLOS-4PAM PNoCs的每比特能耗(EPB)。經(jīng)過3年VBTI老化的CLOS-4PAM PNoC比未經(jīng)老化的基線CLOS-OOK PNoC實(shí)現(xiàn)了5.5%更好的能源效率。2 ]9 ]) f: V3 T J8 h, p
- ]2 |; N2 d9 [$ Q _7 _結(jié)論( T) {, m( ^! T5 \ X- d! L
VBTI老化對(duì)光子網(wǎng)絡(luò)芯片的長(zhǎng)期可靠性和能源效率構(gòu)成了重大挑戰(zhàn)。通過理解VBTI老化的基本機(jī)制和影響,我們可以制定有效的緩解策略。4-PAM信號(hào)的使用成為一種有前途的主動(dòng)解決方案,即使在多年老化后,仍能提供比傳統(tǒng)基于OOK的架構(gòu)更好的能源效率。隨著我們繼續(xù)推動(dòng)多核芯片設(shè)計(jì)的邊界,解決VBTI老化等可靠性挑戰(zhàn)對(duì)于光互連技術(shù)的廣泛采用將至為重要。* N: F' \+ @$ E3 _7 W* ^: j
% F m& B3 e; L2 p0 N7 i$ o* [參考文獻(xiàn)
6 F% _9 { }3 @[1] M. Nikdast, S. Pasricha, G. Nicolescu, and A. Seyedi, Eds., Silicon Photonics for High-Performance Computing and Beyond, 1st ed. Boca Raton, FL, USA: CRC Press, 2021.
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) `) m- W7 g4 I j8 z# J, a關(guān)于我們:
$ d, D3 X+ `( V6 u- ?* p深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。1 ?( Q/ _9 R. ^& @7 n% t. b
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