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引言
, h2 X8 s% L' A) I能量收集技術(shù)作為小型電子器件的可持續(xù)能源供應(yīng)方案?jìng)涫荜P(guān)注;贛EMS的壓電振動(dòng)能量收集器件(P-VEH)能將環(huán)境中的機(jī)械振動(dòng)轉(zhuǎn)換為可用的電能是有效的解決方案,本文探討了針對(duì)低頻應(yīng)用的懸臂梁型P-VEH器件的設(shè)計(jì)考慮因素和分析方法[1]。* s. R+ w ?# A6 g/ a! `8 G
& x& _# j, `2 d' ]$ G* u r- }低頻振動(dòng)源的理解
1 k% R8 Q" A4 {* n, [! S實(shí)際環(huán)境中的振動(dòng)源通常在低頻范圍內(nèi)運(yùn)行,非常適合能量收集應(yīng)用。常見的振動(dòng)源包括汽車和發(fā)動(dòng)機(jī)的電機(jī)振動(dòng)(30-300 Hz)、人體振動(dòng)(~400 Hz)和切割機(jī)振動(dòng)(500-2000 Hz)。由于懸臂梁型P-VEH設(shè)計(jì)具有較低的諧振頻率和對(duì)環(huán)境振動(dòng)的高靈敏度,特別適合這些應(yīng)用場(chǎng)景。3 W) W; G; q t5 t
, i" p# Q8 X) c! L+ ], e9 M# `壓電層參數(shù)的影響
5 z; L9 o+ z, z- NP-VEH器件的性能受壓電層尺寸的顯著影響。下面分析壓電層的長(zhǎng)度和厚度如何影響關(guān)鍵性能指標(biāo)。
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圖1顯示壓電層長(zhǎng)度為50 μm時(shí)的位移分析結(jié)果8 ]9 M# i0 b4 {! w
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圖2展示壓電層長(zhǎng)度為75 μm時(shí)的位移分布
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/ W6 [3 K! B/ ?) J# z圖3呈現(xiàn)壓電層長(zhǎng)度為100 μm時(shí)的位移情況
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圖4描述壓電層長(zhǎng)度為125 μm時(shí)的位移分析
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圖5表示壓電層長(zhǎng)度為150 μm時(shí)的位移結(jié)果
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圖6顯示壓電層長(zhǎng)度為175 μm時(shí)的位移特征4 o) S/ u; B: K8 b
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圖7展示壓電層長(zhǎng)度為200 μm時(shí)的位移分布情況
, I# m2 J. y( O v; E$ N
; o% }# s+ Z4 G% c0 ] o. W. m
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( }( c, X6 n2 ^- a$ J6 V: t圖8顯示壓電層長(zhǎng)度為50 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布,固定端顯示最大應(yīng)力集中
4 ] ~& w- u+ D1 M; c4 W7 s: k: ^% O
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" @$ `1 P( b9 p, o E: V2 G6 C0 S圖9展示壓電層長(zhǎng)度為75 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分析結(jié)果0 t. C# Z! Y/ z7 V& I# P' G& {# P
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. D1 T, E7 c" _1 B, v圖10呈現(xiàn)壓電層長(zhǎng)度為100 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力狀態(tài)
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& g. Y+ M! K- E/ {, ?9 d! f圖11描述壓電層長(zhǎng)度為125 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布
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圖12表示壓電層長(zhǎng)度為150 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力情況
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圖13顯示壓電層長(zhǎng)度為175 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力特征
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C" V" \& D- S2 L8 Q圖14展示壓電層長(zhǎng)度為200 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布,顯示應(yīng)力隨長(zhǎng)度增加而增大
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) u. e% m- P7 X1 |圖15顯示壓電層長(zhǎng)度為50 μm時(shí)的電勢(shì)分布,在固定端處出現(xiàn)最大電勢(shì)值
2 o3 m' G- G* H; L- S6 i3 m
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圖16展示壓電層長(zhǎng)度為75 μm時(shí)的電勢(shì)分布分析0 \* p* A2 l# \ q1 ~3 L* l/ j
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圖17呈現(xiàn)壓電層長(zhǎng)度為100 μm時(shí)的電勢(shì)分布狀態(tài)
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圖18描述壓電層長(zhǎng)度為125 μm時(shí)的電勢(shì)分布特征9 J. b! ]. A: p1 X" N( a4 L* _
4 x6 N5 m7 J( v7 H ~
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圖19表示壓電層長(zhǎng)度為150 μm時(shí)的電勢(shì)分布情況
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圖20顯示壓電層長(zhǎng)度為175 μm時(shí)的電勢(shì)分布結(jié)果
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( i. D6 g1 q/ ~# F0 Z- }
圖21展示壓電層長(zhǎng)度為200 μm時(shí)的電勢(shì)分布,清晰表明電勢(shì)從固定端向自由端逐漸降低的趨勢(shì)6 N$ d2 t$ T" \2 w7 e
" v. C0 J$ r2 y, t. D7 I0 k4 w
分析揭示了以下重要關(guān)系:
" S9 ~, s: \4 D& u8 F. `* G% P1. 位移特性:! D$ k) q& ]5 ~$ r8 z8 o' u7 v; s
壓電層長(zhǎng)度從50 μm增加到200 μm導(dǎo)致位移增大較厚的壓電層(5 μm和10 μm)由于剛度增加而減小位移最大位移出現(xiàn)在懸臂梁自由端
5 g; q6 }/ k* b- c6 G7 c
7 s U `7 ?! }: }2. 應(yīng)力分布:
* @9 Z3 | y4 U8 m最大應(yīng)力出現(xiàn)在懸臂梁固定端較長(zhǎng)的壓電層產(chǎn)生更高的應(yīng)力值增加層厚度會(huì)由于位移減小而降低應(yīng)力
' z& P: s4 q% j. m
: a& }/ j$ F) ?/ c H& T2 E3. 電勢(shì)產(chǎn)生:
! d) E1 g' S0 o5 b% N0 a電勢(shì)在應(yīng)力集中的固定端最高較長(zhǎng)的壓電層產(chǎn)生更高的電勢(shì)較厚的層通常產(chǎn)生更高的電勢(shì),但超過5 μm后增益減少
% u! {' v; e- J* ]# E
* n- a& A! J+ @& T5 f7 d懸臂梁參數(shù)的影響
. A- U' Q* a4 \. Y* y/ K# O, }懸臂梁的尺寸對(duì)器件性能有顯著影響。0 j8 [9 Z7 V' q
7 E7 o, M+ E2 K6 }8 |6 V圖22顯示懸臂梁長(zhǎng)度為100 μm、梁厚度5 μm時(shí)的位移分布,呈現(xiàn)自由端的最大位移值
+ N% s, Y. Q/ f# a
+ @* f& Z/ T: @2 D4 D8 v* x8 \3 k3 M: g0 W
圖23展示懸臂梁長(zhǎng)度增加到200 μm時(shí)的位移分布狀態(tài)
" g& ~) i# i2 b0 F. G6 i
' z- p9 i1 d4 C, L1 y$ Y; {! s5 Q5 l6 O* ^
圖24呈現(xiàn)懸臂梁長(zhǎng)度為300 μm時(shí)的位移分布特征,位移值進(jìn)一步增大& U e1 @) T% v4 l
2 A8 I' V) s: H( O( g: w6 B9 E& F4 c. v
圖25描述懸臂梁長(zhǎng)度達(dá)到400 μm時(shí)的位移分布情況7 X1 ]" q% ]4 A4 ^) V) F- ~. |
n# b$ u* A3 E& d4 }7 w7 S9 H! u5 C! x# X5 s
圖26展示懸臂梁長(zhǎng)度為500 μm時(shí)的位移分析結(jié)果,顯示出最大的位移值,驗(yàn)證了位移隨梁長(zhǎng)度增加而增大的趨勢(shì)
8 G, E/ x" s/ ?- G, B" y
2 Y6 L3 u; o* g" Q/ U& D; g+ A$ Z/ Z0 M! F5 F8 ^! l
圖27顯示懸臂梁長(zhǎng)度為100 μm、梁厚度5 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布,在固定端出現(xiàn)應(yīng)力集中
" m! x3 S9 S$ q$ V ]& ]0 j: Y4 N
; z4 |$ D0 S; S3 m2 _3 |9 T/ l( S" e h+ |# D0 B/ c1 s7 y- C9 E
圖28展示懸臂梁長(zhǎng)度為200 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布,應(yīng)力值相比100 μm有所增加; m, m3 C- E$ V7 D( U
7 y' Z k+ u1 g; [! O; i$ S9 S
7 t( n6 d' t' t* u. E# K, X圖29呈現(xiàn)懸臂梁長(zhǎng)度為300 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力狀態(tài),顯示更高的應(yīng)力集中/ @* ?" |2 A1 L& m
9 {. d1 M6 B9 m
( U8 z: H$ N* I$ n2 L+ l圖30描述懸臂梁長(zhǎng)度為400 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分布,固定端應(yīng)力繼續(xù)增大
) u0 d8 L l& F2 W+ ~- }; J/ P0 A3 G0 \- D
5 a: m) U! t& R圖31展示懸臂梁長(zhǎng)度為500 μm時(shí)的von Mises應(yīng)力分析結(jié)果,表明當(dāng)梁長(zhǎng)度達(dá)到最大值時(shí),在固定端產(chǎn)生最大的應(yīng)力集中. p5 a0 |& ]+ L4 b( k
. D, W7 \9 W4 Y; T- C
% h8 l7 U) I* E4 v圖32顯示懸臂梁長(zhǎng)度為100 μm、梁厚度5 μm時(shí)的電勢(shì)分布,在固定端產(chǎn)生較小的電勢(shì)值
3 E9 r/ J- O8 o* I( C( {2 H7 m# Y$ C1 z9 | `7 Q
7 X/ b0 w! q. X& L! Q" l+ H8 J
圖33展示懸臂梁長(zhǎng)度為200 μm時(shí)的電勢(shì)分布,電勢(shì)值有所增加. U# d3 K* P+ A+ b' U5 M
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圖34呈現(xiàn)懸臂梁長(zhǎng)度為300 μm時(shí)的電勢(shì)分布狀態(tài),顯示更高的電勢(shì)產(chǎn)生 ~9 f% J3 Y: o3 I6 L7 ]- P. b! ~+ l9 k
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/ V5 o6 X. ~0 r8 K" w( `
圖35描述懸臂梁長(zhǎng)度為400 μm時(shí)的電勢(shì)分布,電勢(shì)值進(jìn)一步提高+ A6 c9 V8 i8 c8 d- a
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圖36展示懸臂梁長(zhǎng)度為500 μm時(shí)的電勢(shì)分析結(jié)果,表明在最大梁長(zhǎng)度下獲得最高的電勢(shì)輸出,驗(yàn)證了電勢(shì)隨梁長(zhǎng)度增加而增大的特性9 R( @4 t! E1 G: x8 h; t: J
2 i8 s( V5 J" E) O) |關(guān)于梁參數(shù)的主要發(fā)現(xiàn)包括:! h! `) g- j' q0 q5 E
1. 長(zhǎng)度效應(yīng):3 i% ^* P) u6 M0 @! R3 T6 Q! s8 o
梁長(zhǎng)度從100 μm增加到500 μm顯著提高位移較長(zhǎng)的梁產(chǎn)生更高的應(yīng)力值和電勢(shì)器件尺寸隨梁長(zhǎng)度成比例增大
: U1 c2 i. k2 y) I( o
4 v e( K- v, z! k2. 厚度影響:
7 x# k& i6 ^9 d x0 y/ F3 C較厚的梁由于剛度增加而減小位移應(yīng)力水平隨梁厚度增加而降低電勢(shì)產(chǎn)生與梁厚度成反比更高的厚度增加諧振頻率
( `5 V" Y7 e r3 u# K( q) G8 F% W" f7 u1 ?
P-VEH器件的優(yōu)化設(shè)計(jì)需要仔細(xì)考慮這些參數(shù)以獲得期望的性能特征。對(duì)于低頻應(yīng)用,具有適中厚度的較長(zhǎng)梁由于較低的諧振頻率和對(duì)環(huán)境振動(dòng)的較高靈敏度而表現(xiàn)更好。
+ [+ C4 W" [- u- k' M6 U6 X- x8 x4 c' _& e8 i
全面的分析為設(shè)計(jì)針對(duì)特定應(yīng)用需求的P-VEH器件提供了有價(jià)值的見解,幾何參數(shù)與性能指標(biāo)之間的相互作用使工程師能夠在保持結(jié)構(gòu)完整性和運(yùn)行穩(wěn)定性的同時(shí),優(yōu)化器件設(shè)計(jì)以獲得最大的能量收集效率。1 M4 e4 h: J& A, }& W5 @0 `
8 R- T/ ?% o8 i! b: V, G. p' [參考文獻(xiàn)
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。* n, ^, H8 c( v& M( l
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