期待再聚 | PIC Studio在Tower Semiconductor上海2024全球技術研討會之旅圓滿收官

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01行業(yè)盛會
上海，2024年9月25日 —— 在萬眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術研討會（TGS）盛會上，PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能，成功吸引了全球業(yè)界精英的廣泛關注。此次大會以“賦能未來：模擬技術創(chuàng)新塑造世界”為主題，不僅深度探討了人工智能、大模型發(fā)展對半導體先進技術的導向趨勢，還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領域的非凡成就。


$ R7 \9 C/ Z. ], @圖1：展區(qū)

在大會的展區(qū)，最新版本的PIC Studio受到了廣泛關注。這款作為硅基光電子集成電路（PIC）設計領域的重要工具，憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點，受到了全球精英的期待與關注。
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5 Y1 ~! x. S; M2 v6 l02展會交流
; a7 `# R% }, w; e: ?6 C: PPIC Studio最新版本在保留原有強大功能的基礎上，進一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK，為硅基光電子設計師們提供了前所未有的便捷與支持。
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% d4 L) b- ^; S圖2：Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現(xiàn)場交流
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# w: l- J7 r% f4 M8 W& w7 N7 i+ ^; h7 g圖3：Dr.Marco Racanelli(President)現(xiàn)場交流

. Y8 d% K  |- n* i+ ?0 R. n: N圖4：現(xiàn)場觀眾交流
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具體來說，新版本PIC Studio全面集成了多個核心組件，每一個都經(jīng)過精心設計與優(yōu)化，以滿足不同設計需求。
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& M" @, B7 t* D$ B/ U圖5：PIC Studio全鏈路流程圖
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PhotoCAD作為高效的版圖設計工具，不僅支持組件布局、光程匹配與自動繞線等高級功能，還內(nèi)置了設計規(guī)則檢查（DRC）模塊，確保設計成果從一開始就符合嚴格的工藝要求。

而pSim與pSim Plus則分別承擔了原理圖與鏈路仿真、系統(tǒng)級仿真的重任，前者側(cè)重于快速驗證設計原理，后者則支持復雜的光電融合仿真，包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級功能，助力設計師從多維度、多層面理解并優(yōu)化設計方案。
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$ J! D) |: D! I$ A7 n, ]4 M尤為值得一提的是，PIC Studio還引入了Advanced SDL技術，實現(xiàn)了原理圖驅(qū)動版圖生成（SDL）與版圖生成原理圖（LDS）的雙向轉(zhuǎn)換。這一創(chuàng)新功能不僅大幅提高了設計效率，還確保了版圖與原理圖之間的一致性，為后續(xù)的設計驗證與生產(chǎn)制造奠定了堅實基礎。

此外，pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設計規(guī)則檢查工具的加入，更是為設計的準確性與合規(guī)性提供了雙重保障。
1 y  R  M% A1 g  b0 X03尾聲
" E. i) y8 D4 V* K: P借用TGS大會演講者Mr.Russell Ellwanger（CEO）的一句話："Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無論您對我們的技術解決方案是批評還是贊揚的聲音，我們誠摯歡迎您與我們的人員進行交流，深入了解我司在硅基光電子工藝設計與仿真技術布局及產(chǎn)品應用方面的創(chuàng)新成果，我們期待與您再次相聚！

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