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高性能計算光電子技術(shù)的反向設(shè)計

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引言
; R& J, H5 m  p9 H1 f/ z4 I隨著數(shù)據(jù)中心流量的持續(xù)增加,開發(fā)新的數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)以優(yōu)化芯片間和片上通信變得越來越重要。雖然處理速度隨著技術(shù)進步而提高,但電氣互連的延遲并沒有相應(yīng)地降低,導(dǎo)致了"互連瓶頸",信息傳輸時間成為主要的限制因素。光學(xué)互連在提高帶寬和降低芯片級延遲及功耗方面顯示出潛力。然而,實現(xiàn)實用的芯片級光電系統(tǒng)仍然面臨挑戰(zhàn)。
  q% P$ y" i9 c9 _- u6 G5 U3 j6 Y& y; G, k. F1 P3 d
本文將探討反向設(shè)計技術(shù)如何幫助克服高性能計算互連光電子器件設(shè)計中的關(guān)鍵挑戰(zhàn)。我們將涵蓋動機、方法制定和反向設(shè)計光電子組件的實際例子。: ?+ K5 l: J& l, ^( A
0 Y3 \5 a9 L3 r( c  N2 M
系統(tǒng)級動機
. w9 R( V) M; \9 v9 t1 ]- f為了理解改進大型計算系統(tǒng)中短程互連的潛在好處,我們可以估算對系統(tǒng)級性能指標(biāo)(如能量延遲積,EDP)的影響。圖1顯示了在不同處理器-內(nèi)存架構(gòu)上訓(xùn)練長短期記憶(LSTM)語言模型時的時間和能量消耗分析。1 |: I% c/ ]0 L% i% p( w3 k& M
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圖1:顯示了在2D和2.5D處理器-內(nèi)存架構(gòu)上訓(xùn)練LSTM模型時時間和能量消耗的細分。約90%的時間用于內(nèi)存訪問,而65%的能量被處理器空閑時間消耗。
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對于2D和2.5D架構(gòu),約90%的時間用于訪問內(nèi)存,而65%的能量被處理器等待內(nèi)存訪問結(jié)果的空閑時間消耗。這突顯了提高內(nèi)存訪問延遲、帶寬和能源效率的重要性。# B/ z7 c9 {% n

5 I  o. z, p1 Y& n/ W光學(xué)互連可能解決這個瓶頸問題。為了估算效益,我們可以建模一個系統(tǒng),其中處理器到內(nèi)存的通信通過光學(xué)互連進行,而其他內(nèi)存訪問組件使用標(biāo)準(zhǔn)電子設(shè)備。圖2顯示了不同光學(xué)互連延遲和能量的估計EDP效益。# G. t: {6 [" }5 C! I4 D) N

/ s. }' ~8 {( R, w( R圖2:顯示了2D和2.5D架構(gòu)中,內(nèi)存訪問的估計EDP效益作為光學(xué)互連延遲的函數(shù),對應(yīng)不同的互連能量。
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7 F& Z# \: q/ J. \* l& n- I6 X對于延遲低于2 ns和能量低于1 pJ/bit的互連,我們看到內(nèi)存訪問事件的EDP改善接近2倍。這些目標(biāo)可能通過改進的光電子組件與電子設(shè)備集成來實現(xiàn)。# g' q( v, _& q( z: q" t
+ F, y  V5 i2 d
反向設(shè)計方法
3 o( D# M3 U. ?& Q7 c$ Y! J3 D過渡到芯片級光學(xué)互連需要緊湊、低損耗、對制造誤差穩(wěn)健且兼容大規(guī)模生產(chǎn)的器件。傳統(tǒng)光電子設(shè)計通常依賴于半解析設(shè)計的參數(shù)掃描,限制了設(shè)計空間。反向設(shè)計使用物理引導(dǎo)優(yōu)化來探索給定占用面積的全參數(shù)空間。
0 K* s" K% w* K' L
0 J( E0 ], x/ ]5 P" s反向設(shè)計方法將光電子器件設(shè)計表述為優(yōu)化問題:
& T$ O7 k5 W( l) i1 o8 u* _* E- H# k! a. J& L) @3 \7 q/ v

$ i6 Y5 u5 M/ ]: N! ]  I5 J$ ~# D0 O
其中fobj是捕捉優(yōu)化目標(biāo)的目標(biāo)函數(shù),E是電場,ε是表示器件結(jié)構(gòu)的介電常數(shù)分布,ω是頻率,J是輸入源,C是可制造的介電常數(shù)分布集合。5 d5 T6 Q# F/ Q# I
9 P* s1 _; A, R
: |1 B6 k0 p1 i, f. t5 B- }
/ Q. |' M' G( V* |- A' j
目標(biāo)函數(shù)相對于ε的梯度可以使用伴隨方法高效計算:% \; |6 h9 q* R8 b
: s! g" Z' ?0 u# c
$ K( \7 O' x& s1 m: `1 A5 F  L- Z

0 X/ G) t8 B5 o3 q1 n. i/ h這允許使用每次迭代只需兩次電磁模擬的大量自由度進行優(yōu)化。
2 ]( T! O/ m0 J; \5 i, [2 i! f! h
: B) Q; L1 C2 J# w" X) [7 |實用反向設(shè)計光電子器件
0 b( }/ O, X* p/ ]% i光柵耦合器
% D- W8 ~" I# Z9 a反向設(shè)計已用于創(chuàng)建寬帶、多功能和高效率的光柵耦合器。圖3顯示了具有各種功能的反向設(shè)計光柵耦合器的例子。
& M6 J' I/ ]$ R: m & d: @# E/ {# H: r9 _
圖3:顯示了反向設(shè)計的光柵耦合器,包括(a)不同帶寬的寬帶耦合器,(b)波長解復(fù)用耦合器,和(c)效率99%的傾斜蝕刻耦合器。/ F8 k# f: G% ?% W, M+ O. @, |7 k
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分路器/復(fù)用器
6 B) V5 w  ^; J) |+ m+ `; |反向設(shè)計的分路器和復(fù)用器器件比傳統(tǒng)設(shè)計實現(xiàn)了10倍小的占用面積和增加的穩(wěn)健性。圖4展示了在商業(yè)代工廠制造的反向設(shè)計波長解復(fù)用器。" B# h7 V# q" x5 K4 L/ a
0 G9 h' ]* ?% O: }- H1 D- ?, S
圖4:顯示了反向設(shè)計的波長解復(fù)用器,包括(a)問題表述,(b)器件設(shè)計,(c)制造的器件圖像,(d)模擬性能,和(e)測量性能。
$ m( @7 t" ]8 \0 ]# ~" U: ~$ s1 [  O0 F+ ]6 ~% P
慢光波導(dǎo)
+ `" G) Y$ q9 V8 }0 m* F) r反向設(shè)計可應(yīng)用于色散工程,創(chuàng)建高效的慢光波導(dǎo),可能實現(xiàn)更節(jié)能的調(diào)制器。圖5顯示了反向設(shè)計慢光光子晶體波導(dǎo)的例子。
4 k+ v/ I1 C/ n! Z0 J- K) H8 v
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% |9 h7 c! D3 y$ [8 q3 F. E圖5:展示了色散工程的反向設(shè)計,顯示(a)初始器件,(b)初始色散,(c)最終反向設(shè)計器件,(d-e)電場分量,和(f-g)最終色散和群折射率。6 S/ L) Q  E& f7 K
; L- x, }; U. {4 w, h. ?4 ^
展望和未來方向
1 }3 L6 j; v& c) I雖然反向設(shè)計在實現(xiàn)實用芯片級光學(xué)互連方面顯示出潛力,但仍有幾個關(guān)鍵研究方向:
  • 與電子設(shè)備集成:演示反向設(shè)計光電子器件與用于信息處理和控制線路的電子設(shè)備的集成。
  • 有源器件設(shè)計:將反向設(shè)計技術(shù)擴展到具有挑戰(zhàn)性的有源器件,如調(diào)制器,可能利用慢光波導(dǎo)提高效率。
  • 仿真效率:改進3D仿真能力,使得在不需要過高計算時間的情況下能夠反向設(shè)計更大的有源器件。
  • 非線性和時域優(yōu)化:納入非線性效應(yīng)和時域方法,擴大可以反向設(shè)計的器件范圍。
  • 數(shù)據(jù)驅(qū)動加速:利用機器學(xué)習(xí)模型加速反向設(shè)計過程中的電磁仿真。, g. m2 Z8 G$ z
    [/ol]
    , g0 r4 M% H, E1 i, Y通過解決這些挑戰(zhàn),反向設(shè)計可能為大規(guī)模計算系統(tǒng)解鎖顯著的系統(tǒng)級性能改進。該方法已證明能夠生產(chǎn)緊湊、寬帶和多功能的無源光電子器件,并與代工廠制造兼容,使其成為實現(xiàn)高效和緊湊低延遲光學(xué)鏈路的有希望的工具。# i  p: ?. y, \

    + J, j( @6 f( h- y1 z0 ?總之,反向設(shè)計為克服高性能計算互連中傳統(tǒng)光電子器件的關(guān)鍵限制提供了強大的方法。通過實現(xiàn)穩(wěn)健、緊湊和高效的光電子組件的創(chuàng)建,可能在解決互連瓶頸和改善整體系統(tǒng)性能方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。隨著研究在有源器件設(shè)計和與電子設(shè)備集成等領(lǐng)域的進展,反向設(shè)計光電子技術(shù)可能成為下一代計算系統(tǒng)的重要技術(shù)。
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    : Y+ ~& Q7 ~) J
    參考文獻) A! L4 j3 H/ [- I2 c
    [1] M. Nikdast, S. Pasricha, G. Nicolescu, and A. Seyedi, Eds., Silicon Photonics for High-Performance Computing and Beyond, 1st ed. Boca Raton, FL, USA: CRC Press, 2021.
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    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!$ x7 A2 ~2 J, u' t- Z
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    " ]2 s5 ~5 I; W. z) n% r深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。/ U4 P+ Y  j( w# I$ n' [, @
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