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MEMS導(dǎo)向梁式壓電能量收集器的設(shè)計與分析

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發(fā)表于 2024-11-25 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
引言
$ y4 K5 B5 {* r/ |$ F壓電振動能量收集器(P-VEH)能將環(huán)境機械振動轉(zhuǎn)換為電能。本文探討MEMS導(dǎo)向梁式P-VEH的設(shè)計和分析,重點研究雙梁和四梁結(jié)構(gòu)以及中心質(zhì)量塊的配置[1]。/ Z: }& y4 K5 U% p
4 `  O7 l1 T  ]! ?9 V
器件結(jié)構(gòu)與工作原理. T. M# R3 E' D
導(dǎo)向梁式P-VEH由兩端固定的梁和中心的金字塔形質(zhì)量塊構(gòu)成。結(jié)構(gòu)采用氧化鋅(ZnO)作為壓電材料,夾在金屬電極之間。當(dāng)環(huán)境振動導(dǎo)致梁產(chǎn)生位移時,產(chǎn)生的應(yīng)力通過壓電效應(yīng)生成電勢。' a% q$ H7 z5 b3 W
1 w- `7 {- k1 E/ G# b5 K3 D8 F
圖1:導(dǎo)向四梁P-VEH的設(shè)計結(jié)構(gòu),展示了梁的配置和中心質(zhì)量塊。0 w; u! q! U6 u4 i
( _5 S# ?% g* p( |/ L9 M; r1 P) r
/ H) N/ [' G, y
圖2:截面視圖顯示了層疊結(jié)構(gòu),包括硅基底、氧化物絕緣層、金屬電極和ZnO壓電層。
1 P. c1 V4 j: u6 `6 U5 [# M  e- S- Q
器件采用硅基底,上面是熱氧化物絕緣層,然后是金屬電極(Au/Al)和ZnO壓電層。鈍化層保護ZnO免受環(huán)境退化。梁的典型尺寸為長2500μm,寬2000μm,中心質(zhì)量塊尺寸為3500μm × 3500μm。# F! X% [- R+ Q$ L' i, C

3 ~7 D/ ]8 }0 K) L( e性能分析與特性7 p8 l! L1 \; r) L
關(guān)鍵性能參數(shù)包括共振頻率、位移、應(yīng)力分布和產(chǎn)生的電勢。這些特性通過有限元方法(FEM)模擬進行分析。2 _( c% b+ _  p2 i

3 h2 ~5 O3 G/ h- u) S* ?0 r7 \% \; u圖3:FEM模擬顯示四梁結(jié)構(gòu)在5μm梁厚度下的共振頻率為335.96Hz。
7 g" c3 @8 ?4 j! J: h9 j7 V
1 Q$ P& |5 ~2 E6 z. O0 T共振頻率主要取決于梁的尺寸和質(zhì)量塊。為實現(xiàn)最佳能量收集效果,此頻率應(yīng)與環(huán)境振動頻率匹配。根據(jù)梁厚度的不同,器件展示出335.96Hz到1631.4Hz的共振頻率范圍。! |0 |3 l( m7 v- h* V, U' z
: b  t# E4 y2 o, S$ n( v& W' n* D
! Z2 E9 X" E% f" l
圖4:沿梁長度的位移和von Mises應(yīng)力分布,顯示在固定端和導(dǎo)向端的最大值。
; p2 x/ {1 Q$ B; R" k/ U: ~- F
, a2 z3 v3 A" f2 _  V; W當(dāng)受到外部加速度(1-5g)時,梁在靠近質(zhì)量塊的導(dǎo)向端表現(xiàn)出最大位移。應(yīng)力分布在固定端和導(dǎo)向端都顯示峰值,在梁中心處應(yīng)力最小。這種應(yīng)力模式通過壓電效應(yīng)產(chǎn)生電勢。/ _5 Z6 i5 U1 U& U
1 J  W8 D% n8 h' n! w" d& j* O
雙梁與四梁配置的比較& P# o; v6 d$ w7 l  M3 J! f" S0 }
雙梁和四梁結(jié)構(gòu)的性能比較揭示了重要的設(shè)計考慮因素。: Q3 [. _+ D2 b
2 o1 _8 U+ ~5 e) K+ F
圖5:(a)導(dǎo)向雙梁和(b)導(dǎo)向四梁P-VEH的設(shè)計結(jié)構(gòu),顯示不同的梁配置。; m" j3 ~9 ?! O; s( m7 a/ h8 q

' h9 M. ?  B) M: ?9 {
0 y$ W; v3 \2 _( b6 N, t圖6:第一模態(tài)共振頻率比較,顯示雙梁為1535.2Hz,四梁為2141.1Hz。5 f" I# y9 ^5 t) m4 h, V

) W3 l* {3 Y5 E1 O4 x  |四梁配置具有以下優(yōu)勢:
9 J! @' h2 l  f/ d5 c3 @0 _由于應(yīng)力分布在多個梁上,運行更穩(wěn)定
- G% F& W5 G* j. w! ?6 e% L7 s較低的位移減少了與器件封裝的碰撞風(fēng)險
7 }0 r; a: q1 W8 L/ N每個梁的應(yīng)力較小,可靠性更高# G$ `+ ^5 G) n: t
當(dāng)所有梁連接時,總電勢輸出更高& L0 G9 q9 }- f9 u$ A! k' \
. S, M$ C+ Z, G: ]* M
四梁結(jié)構(gòu)每個梁產(chǎn)生的電勢約為雙梁設(shè)計的一半,但四個梁的總電勢超過雙梁配置。
, e' w* B7 q( K/ n, s$ d$ O* b( o/ F4 A  I! K. S& f
分離電極優(yōu)化
2 A8 P7 S" c% H! _. ?. O為有效收集拉伸和壓縮應(yīng)力產(chǎn)生的能量,分離電極設(shè)計非常必要。
) d- U7 U1 U4 u5 L2 {" Q
# Q1 E4 z, y; i圖7:沿梁長度的應(yīng)力和位移變化,顯示分離電極放置的最佳區(qū)域。  e  R7 J4 }) Z* N

1 s& r5 Y. Q# H. M2 W優(yōu)化研究顯示三個不同區(qū)域:* V' L4 i0 F( z# I/ h6 G9 U" _' Z
  • A區(qū)(0-675μm):最大拉伸應(yīng)力
  • B區(qū)(675-1825μm):線性過渡區(qū)
  • C區(qū)(1825-2500μm):最大壓縮應(yīng)力
    & r, M2 y  s5 t
    2 ?* g* }, t6 `4 f( r
    分離電極T1和T2分別戰(zhàn)略性地放置在A區(qū)和C區(qū),以實現(xiàn)能量收集最大化。! j( k4 H/ q4 e. ?, L4 _/ T1 A6 a
    這種優(yōu)化的電極配置表現(xiàn)出:
    + G: a7 a$ k# \6 M: _; x" w. z$ E( f
  • 與全長電極相比,具有較低的共振頻率
  • 改進的位移特性
  • 運行過程中增強的電容變化
    % k! G# W& j; W! ~# Y
    5 {9 I- B: H  g1 d' P% ^

    & [7 H4 e0 a' K" D/ j0 o圖8:電極長度對位移和電容的影響,顯示在675μm長度時的最佳性能。' N0 j7 U- S) x5 \! E

    * b9 q; j  a5 a優(yōu)化的675μm長度分離電極設(shè)計顯示:" ^  G8 x" Q- F! S# \% ^; ~  e6 E
  • 在1g加速度下最大位移為3.11422μm
  • 最高電容變化達190.59026pF
  • 與全長電極相比,位移提高19.26%7 e- L5 ^6 j3 v! m; @3 x' v% k. E
    0 e% ~8 a$ i) ~; C3 ?) ^% f* W
    本文展示了導(dǎo)向梁式P-VEH器件,特別是具有優(yōu)化分離電極的四梁配置,適合機械能量收集應(yīng)用。所提供的設(shè)計考慮因素和分析為開發(fā)用于驅(qū)動小型電子系統(tǒng)的高效能量收集器件提供了有價值的見解。1 t+ G  {& E1 p8 N
    ; u4 ?: S7 y; w" y
    參考文獻
      [( q8 T" n, H) d2 R% _4 G% r% P[1] S. Saxena, R. Sharma, and B. D. Pant, "Design and Development of MEMS based Guided Beam Type Piezoelectric Energy Harvester," in Energy Systems in Electrical Engineering. Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.- \# h! J0 D0 _% ]; O; V9 E6 I

    " ^& c. S, K. `1 hEND1 x$ W1 R. \/ o' o& |
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    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!$ t4 I* X6 S5 D* p# l! d* @& X
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