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MEMS導(dǎo)向梁式壓電能量收集器的設(shè)計(jì)與分析

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發(fā)表于 2024-11-25 08:01:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言. S, L$ v+ k9 v0 c* Y
壓電振動(dòng)能量收集器(P-VEH)能將環(huán)境機(jī)械振動(dòng)轉(zhuǎn)換為電能。本文探討MEMS導(dǎo)向梁式P-VEH的設(shè)計(jì)和分析,重點(diǎn)研究雙梁和四梁結(jié)構(gòu)以及中心質(zhì)量塊的配置[1]。
. m8 D+ L# H% i' b8 T
4 Q  V6 r9 i5 H; i' A3 p器件結(jié)構(gòu)與工作原理
7 V6 B: U8 B) X7 _5 {+ V$ B( B' d導(dǎo)向梁式P-VEH由兩端固定的梁和中心的金字塔形質(zhì)量塊構(gòu)成。結(jié)構(gòu)采用氧化鋅(ZnO)作為壓電材料,夾在金屬電極之間。當(dāng)環(huán)境振動(dòng)導(dǎo)致梁產(chǎn)生位移時(shí),產(chǎn)生的應(yīng)力通過(guò)壓電效應(yīng)生成電勢(shì)。. }/ B/ d' Q2 @, o8 e
+ b- s! p6 X6 s# O1 t  B2 U
圖1:導(dǎo)向四梁P-VEH的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu),展示了梁的配置和中心質(zhì)量塊。
0 f  r) |# P/ ]4 l6 \, T* t2 N6 V# `" o

" ]5 L( x, u0 O, L# q- C圖2:截面視圖顯示了層疊結(jié)構(gòu),包括硅基底、氧化物絕緣層、金屬電極和ZnO壓電層。) o( z6 v  G0 I4 c; Y% R
/ X# N0 K& P% F& U" z- Z
器件采用硅基底,上面是熱氧化物絕緣層,然后是金屬電極(Au/Al)和ZnO壓電層。鈍化層保護(hù)ZnO免受環(huán)境退化。梁的典型尺寸為長(zhǎng)2500μm,寬2000μm,中心質(zhì)量塊尺寸為3500μm × 3500μm。
' L7 a, a0 Q% C% W, x+ Y' w
: F$ z8 X$ T8 k' H" @5 Y  M性能分析與特性
+ `: P# R8 c8 U關(guān)鍵性能參數(shù)包括共振頻率、位移、應(yīng)力分布和產(chǎn)生的電勢(shì)。這些特性通過(guò)有限元方法(FEM)模擬進(jìn)行分析。
  d0 m6 @, W& I7 ]- n' D , @8 m5 M( w- Z( a
圖3:FEM模擬顯示四梁結(jié)構(gòu)在5μm梁厚度下的共振頻率為335.96Hz。6 d9 U. p, h9 i7 B4 o+ J. [6 ^* T

# e) k' Y0 T% O; N3 P共振頻率主要取決于梁的尺寸和質(zhì)量塊。為實(shí)現(xiàn)最佳能量收集效果,此頻率應(yīng)與環(huán)境振動(dòng)頻率匹配。根據(jù)梁厚度的不同,器件展示出335.96Hz到1631.4Hz的共振頻率范圍。
8 ?9 d3 [. Y2 ]- b& J% M5 b ) ?8 V2 {' g' E- w, f2 h! G
2 M% R8 ?$ i- A6 I
圖4:沿梁長(zhǎng)度的位移和von Mises應(yīng)力分布,顯示在固定端和導(dǎo)向端的最大值。; n+ Y! m0 |6 J, q0 U7 R
6 `6 [5 A- L1 n/ z5 V7 B
當(dāng)受到外部加速度(1-5g)時(shí),梁在靠近質(zhì)量塊的導(dǎo)向端表現(xiàn)出最大位移。應(yīng)力分布在固定端和導(dǎo)向端都顯示峰值,在梁中心處應(yīng)力最小。這種應(yīng)力模式通過(guò)壓電效應(yīng)產(chǎn)生電勢(shì)。% a4 o6 ~( z% k0 c7 u; B

! \  m) A% D) x& ~雙梁與四梁配置的比較4 X* E  v5 K) y% D$ M' \6 d" X
雙梁和四梁結(jié)構(gòu)的性能比較揭示了重要的設(shè)計(jì)考慮因素。
% M, a, z$ E: U. x1 z6 h
1 T" h' I& r2 @2 P  G8 n- a圖5:(a)導(dǎo)向雙梁和(b)導(dǎo)向四梁P-VEH的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu),顯示不同的梁配置。
6 W/ J: V. j# e/ j- @) J% l  M6 A/ T7 E7 E) I1 B8 y; X3 L1 k

( L) Z/ {1 }7 A圖6:第一模態(tài)共振頻率比較,顯示雙梁為1535.2Hz,四梁為2141.1Hz。
+ D! \: _' Y0 n; u" c: b) A% ?% `' V; l5 T3 \# i; ]
四梁配置具有以下優(yōu)勢(shì):$ t' f- e+ H, [3 r9 ?
由于應(yīng)力分布在多個(gè)梁上,運(yùn)行更穩(wěn)定
1 P( P  F: i! F0 ~/ X& g, g較低的位移減少了與器件封裝的碰撞風(fēng)險(xiǎn), y9 c- j0 t! _) K
每個(gè)梁的應(yīng)力較小,可靠性更高
$ U0 o; \( y! u9 r3 |當(dāng)所有梁連接時(shí),總電勢(shì)輸出更高& Z1 n2 n( ?7 c$ z5 J

% }+ B5 v5 E4 O$ W四梁結(jié)構(gòu)每個(gè)梁產(chǎn)生的電勢(shì)約為雙梁設(shè)計(jì)的一半,但四個(gè)梁的總電勢(shì)超過(guò)雙梁配置。, f* K3 `4 n9 x! n  Q

( S1 `1 q4 }$ D2 t' n分離電極優(yōu)化
/ p- k+ g$ E7 ^) r7 t為有效收集拉伸和壓縮應(yīng)力產(chǎn)生的能量,分離電極設(shè)計(jì)非常必要。" F* p, r+ ?& w
2 r4 N5 j  H' u* i5 ~
圖7:沿梁長(zhǎng)度的應(yīng)力和位移變化,顯示分離電極放置的最佳區(qū)域。8 O2 A2 [& H8 H
% M, M5 h2 n- Z* r9 V
優(yōu)化研究顯示三個(gè)不同區(qū)域:
" o6 a1 ^9 `: C2 o  u
  • A區(qū)(0-675μm):最大拉伸應(yīng)力
  • B區(qū)(675-1825μm):線(xiàn)性過(guò)渡區(qū)
  • C區(qū)(1825-2500μm):最大壓縮應(yīng)力; }) I9 y0 Z1 w

    ( G2 D: p3 S# P& `& f分離電極T1和T2分別戰(zhàn)略性地放置在A區(qū)和C區(qū),以實(shí)現(xiàn)能量收集最大化。5 R) A( I* A: n" `$ Y+ t1 A- K
    這種優(yōu)化的電極配置表現(xiàn)出:
    " W# e: i' d  d0 M% I& b
  • 與全長(zhǎng)電極相比,具有較低的共振頻率
  • 改進(jìn)的位移特性
  • 運(yùn)行過(guò)程中增強(qiáng)的電容變化
    % C( Q5 r, [/ A; W) `) ]$ Y$ R9 B
    ) s4 G% b5 F, Q) d/ Y# x  P
    $ X% e7 \8 p6 F8 t) B
    圖8:電極長(zhǎng)度對(duì)位移和電容的影響,顯示在675μm長(zhǎng)度時(shí)的最佳性能。+ p* R4 m; p4 T
    * `( L% \7 C$ b% T0 T* k4 h4 l3 A
    優(yōu)化的675μm長(zhǎng)度分離電極設(shè)計(jì)顯示:
    % v. i3 m; V0 U0 p* |  }# o
  • 在1g加速度下最大位移為3.11422μm
  • 最高電容變化達(dá)190.59026pF
  • 與全長(zhǎng)電極相比,位移提高19.26%
    ' a" c( m& |/ W5 Y$ R5 ?# {- Z7 J

    # |; y3 V: y8 O' [) [8 K本文展示了導(dǎo)向梁式P-VEH器件,特別是具有優(yōu)化分離電極的四梁配置,適合機(jī)械能量收集應(yīng)用。所提供的設(shè)計(jì)考慮因素和分析為開(kāi)發(fā)用于驅(qū)動(dòng)小型電子系統(tǒng)的高效能量收集器件提供了有價(jià)值的見(jiàn)解。
    + T$ a: L" Y0 p! [4 z# j  k* L" Z8 y+ i: @
    參考文獻(xiàn)
    ' |0 U7 Z& B  s- S5 j0 p[1] S. Saxena, R. Sharma, and B. D. Pant, "Design and Development of MEMS based Guided Beam Type Piezoelectric Energy Harvester," in Energy Systems in Electrical Engineering. Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.! I% i7 z! C* C! L% _8 w0 i
    6 B9 g, x* y2 f8 L
    END
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    點(diǎn)擊左下角"閱讀原文"馬上申請(qǐng)2 T) T3 ^3 A) u3 {9 P, j% x

    4 i' @- U% a, W6 L歡迎轉(zhuǎn)載: R% R# {, ~5 `5 Z

    . N. b4 G& ]( k) O) `5 W; T2 x- h% m轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
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    : z1 h: X& y4 \! {$ w" a& ^$ k深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開(kāi)發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶(hù)。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠(chǎng)及硅光/MEMS中試線(xiàn)合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶(hù)提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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