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氮化鎵技術(shù)在電力電子應(yīng)用中的理解

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發(fā)表于 2024-12-2 08:54:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
氮化鎵技術(shù)簡介
: m' ~, ~2 y7 |: u2 {  B氮化鎵(GaN)技術(shù)在電力電子領(lǐng)域帶來革命性進(jìn)步,相比傳統(tǒng)硅基器件具有顯著優(yōu)勢。本文將探討GaN技術(shù)的基本特性、結(jié)構(gòu)、應(yīng)用及性能特點[1]。
2 V$ P# E3 I4 N& y+ G- H* m
- p, l- V3 {# x材料特性與構(gòu)型4 j5 l7 w, a0 p) Q1 q
GaN同時具有比硅和碳化硅(SiC)更高的載流子遷移率和臨界電場。采用相對經(jīng)濟(jì)的GaN-on-Si晶圓使GaN在中高端應(yīng)用中更具競爭力,特別是在成本敏感的場景下。! |& l$ O7 W3 N, _  _

, w9 g4 b: `" p# e* j9 u3 g: {圖1展示了不同材料和技術(shù)的特定Ron與擊穿電壓限值的關(guān)系,顯示了GaN相比硅和SiC的卓越性能特征。' @/ r7 M4 R, z7 P- Y
8 v" E; K9 Z  ?' A
GaN器件的橫向構(gòu)型具有以下優(yōu)勢:$ G; M' j, E, Q+ T4 y" f
  • 可實現(xiàn)傳感、保護(hù)和驅(qū)動線路的單片集成
  • 所有端子易于訪問
  • 支持半橋器件集成
  • 可與硅器件簡單混合集成
  • 封裝更簡單且成本更低
    " x1 \6 d7 l* F9 W
    " a6 b3 f0 J! S+ ?( P9 }6 T
    器件結(jié)構(gòu)與運行原理3 {  c. x6 N" S! p# ]3 o( ~

    & A, L+ M" p3 j. @+ ^圖2對比展示了摻雜硅晶體管與GaN HEMT的截面結(jié)構(gòu),顯示了兩種技術(shù)的基本結(jié)構(gòu)差異。: c) b4 V9 V% D5 r3 R* B: P
    2 G/ v- y& G2 ~. `1 T
    對于任何GaN HEMT應(yīng)用,驅(qū)動線路的合理設(shè)計和優(yōu)化對構(gòu)建高效可靠的系統(tǒng)具有根本作用。驅(qū)動線路需要為開關(guān)柵極提供適當(dāng)?shù)碾妷汉碗娏鱽砜刂崎_關(guān)過程。! f  {+ B( @2 d8 R( x

    ( [# i3 e/ ?4 \4 `+ ?  \3 A( B驅(qū)動線路與功率集成$ u3 t+ H+ G$ H# p- p* F
    / T8 a: {; m1 A3 s7 O/ f  o% v
    圖3展示了肖特基柵GaN HEMT(上)和GIT GaN HEMT(下)的驅(qū)動線路,顯示了不同類型所需的配置。6 g1 @' @. K3 z* g4 y$ `

    ! N' v8 B2 V; Y! j, f$ ]GaN功率集成電路的出現(xiàn)代表技術(shù)的重大進(jìn)步。集成實現(xiàn)了關(guān)斷時幾乎零損耗,因為關(guān)斷柵極驅(qū)動回路基本沒有阻抗。, p9 r8 e( G- P( p9 |& Z. @
    9 J( n! \" F" Q  F5 b
    圖4顯示了新型高頻有源鉗位拓?fù)浜虶aN功率集成電路如何實現(xiàn)無源元件縮小和整體功率密度提高3倍。
    , q- B- Z; S' h. r  g1 A
    $ k# P3 W" D/ u2 r動態(tài)特性表征的挑戰(zhàn)
    0 ], T% R: H% u8 Y/ S4 Z: ]- ?9 dGaN功率器件的動態(tài)特性測量面臨獨特挑戰(zhàn),因為電壓轉(zhuǎn)換(dv/dt)和電流轉(zhuǎn)換(di/dt)極快。這些快速轉(zhuǎn)換與測試線路中的寄生元件相互作用,可能產(chǎn)生過高的電壓或電流。7 y& E, G# g) \! Y+ f- |
    8 E" N8 S! h2 ^2 c1 j$ v
    圖5展示了GaN FET開關(guān)測試中的振蕩和振鈴結(jié)果,說明了動態(tài)表征中的挑戰(zhàn)。: n) w# |: t. {+ ^9 p& |* y& p+ X- V

    ) Y" v4 D& i. f8 K2 ^, O3 N6 }垂直GaN技術(shù)! u. z  d( u0 g8 ^
    垂直GaN技術(shù)的發(fā)展代表另一個重要方向。垂直GaN能夠?qū)崿F(xiàn)700-900V以上阻斷電壓的實用擴(kuò)展,因為阻斷電壓隨外延特性而不是芯片面積變化。* n/ @2 \$ c" J) \) w
    ' U& }2 {9 e/ t( }) ~! S8 Q/ p
    圖6展示了基于GaN-on-GaN低缺陷密度的垂直導(dǎo)電GaN晶體管,顯示了垂直器件的基本結(jié)構(gòu)。  B2 k7 P5 C9 b+ \( N) S
    4 o  J: B. o" |, E" v' t1 @0 z
    可靠性與測試
    - e; D2 r' b" y) N3 `" S4 Q可靠性是GaN技術(shù)最關(guān)鍵的方面之一。制造商采用全面的測試程序來確保器件在各種工作條件下的可靠性。. Y2 q( z+ g6 Z6 u6 M

      P* s9 _- r& E+ k3 m" B! y圖7展示了英飛凌的四支柱GaN器件認(rèn)證方法,顯示了確保器件可靠性的綜合方法。) i1 G; F8 O4 l8 d. j: h. p& L" N- _

    5 ?  L4 h0 B% K$ y應(yīng)用與發(fā)展方向8 V. z# P9 {4 T$ p2 A8 F
    隨著GaN技術(shù)的不斷成熟,已在數(shù)據(jù)中心、電動汽車和工業(yè)電機(jī)驅(qū)動等領(lǐng)域獲得應(yīng)用。這種技術(shù)在保持高效率的同時能夠在更高頻率下工作,使其在新一代電力電子應(yīng)用中具有特殊價值。
    ! f5 F6 v# e  R& Y3 E' }3 i* n( ] 6 C( W9 V% h9 a: |; O
    圖8展示了GaN半橋功率集成電路示意圖和電機(jī)逆變器實例及其良好的散熱性能,展示了在電機(jī)控制系統(tǒng)中的實際應(yīng)用。" |' n$ H5 |5 e8 g# b+ Y$ M& m/ g  s1 p
    * O" H# s, @2 Z# @' ?, v
    結(jié)論9 z* u7 X4 N, e: s8 u& n4 o; T- X$ s
    GaN技術(shù)在電力電子領(lǐng)域展現(xiàn)出卓越的性能特征,遠(yuǎn)超傳統(tǒng)硅基器件。盡管在動態(tài)表征和可靠性測試等方面仍存在挑戰(zhàn),但橫向和垂直GaN技術(shù)的持續(xù)發(fā)展正在推動高性能電力電子應(yīng)用的進(jìn)步。' X5 Q$ A: C: c, C( ]# ~7 N

    # f2 g. L1 Z2 L! L7 |參考文獻(xiàn)6 c# A) a# p. B$ \8 D, ^
    [1] M. Di Paolo Emilio et al., "GaN Technology," in GaN Technology: Materials, Manufacturing, Devices and Design for Power Conversion. Cham, Switzerland: Springer Nature Switzerland AG, 2024, ch. 4, pp. 49-106. doi: 10.1007/978-3-031-63238-9_49 g) ~' }( {/ D0 T. x6 g3 K) C

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    ! a% Q% Y8 t) q: u" ^+ S歡迎轉(zhuǎn)載
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    2 {/ b# A8 G% Z3 U' `深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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