光電子集成芯片的設(shè)計規(guī)則檢查

逍遙設(shè)計自動化

設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）簡介
) t, e2 n+ c1 }& R設(shè)計規(guī)則檢查是集成線路設(shè)計中的關(guān)鍵驗證步驟，通過驗證物理版圖是否符合預(yù)定義的設(shè)計規(guī)則來確保制造可行性。在光電子集成芯片中，由于光波導(dǎo)和器件的特殊要求，設(shè)計規(guī)則檢查變得更加重要。PIC Studio當(dāng)中的pVerify DRC工具提供全面的設(shè)計規(guī)則檢查功能，使設(shè)計人員能夠高效地驗證版圖。
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基本設(shè)計規(guī)則檢查
PIC Studio實現(xiàn)了構(gòu)成版圖驗證基礎(chǔ)的設(shè)計規(guī)則檢查，確保各個幾何元素滿足制造約束。該平臺提供多種基本檢查機(jī)制。

' q# s" U, m* Z; C8 p, q圖1：基本設(shè)計規(guī)則檢查的圖示，包括最小寬度和精確寬度要求，展示了尺寸超出指定參數(shù)時如何識別違規(guī)情況。

/ P6 f$ c7 g$ d" Q- R' Q' u最小寬度檢查確保沒有特征比工藝定義的最小尺寸更窄。這對波導(dǎo)尤為重要，因為寬度變化會顯著影響光學(xué)性能。精確寬度檢查驗證特定特征是否保持精確尺寸，這對定向耦合器等器件極為重要，因為耦合比依賴于精確的幾何參數(shù)。

圖2：設(shè)計規(guī)則檢查驗證中的間距和面積檢查演示，展示了如何驗證特征之間的最小間距和最小面積要求。
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間距檢查驗證相鄰特征之間是否存在足夠的分隔，以防止制造問題和不需要的耦合效應(yīng)。面積檢查確保特征足夠大，可以可靠制造，這對接觸焊盤和其他金屬結(jié)構(gòu)特別重要。

! I) L- k, o% z7 W$ |" b層生成方法
: F% Y' n" }6 V( wPIC Studio提供了支持復(fù)雜設(shè)計規(guī)則檢查操作的復(fù)雜層生成功能。
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圖3：用于設(shè)計規(guī)則檢查驗證的各種布爾運算（或、與、異或、A-B、B-A）的圖示。
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' d2 ~. G! c8 P2 S  {8 j: y# p# l# R圖4：用于修改幾何特征的正向和負(fù)向尺寸操作演示。

' a+ e4 S, A. D( G3 v# G擴(kuò)展幾何檢查
, Z4 K0 `" V, W5 _% ]除基本檢查外，PIC Studio還實現(xiàn)了復(fù)雜光子結(jié)構(gòu)所需的高級幾何驗證功能。
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圖5：擴(kuò)展幾何檢查的示例，包括不同層之間的包圍和分隔要求。
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0 T8 w' u9 f6 P圖6：各種幾何關(guān)系檢查的演示，包括不同層之間的內(nèi)部、外部、不相交和重疊條件。

, Z, q% e! z- P/ _銳角和密度檢查
0 v% F6 \2 l& e% L: A9 }PIC Studio為制造關(guān)鍵特征提供專門的檢查，銳角可由用戶自行決定是否執(zhí)行自動修復(fù)，或是用戶自行手動修復(fù)。

圖7：銳角檢測和修正方法的圖示，展示了如何識別和修補關(guān)鍵角度。


圖8：密度檢查演示，展示了如何根據(jù)指定限制驗證局部圖形密度。

與設(shè)計流程的集成
PIC Studio的設(shè)計規(guī)則檢查功能完全集成到設(shè)計流程中，支持各種輸入點和驗證方法。

" K( r1 |) m0 x$ s圖9：全面的圖表，展示了設(shè)計規(guī)則檢查驗證如何與不同設(shè)計流程集成，包括原理圖驅(qū)動、版圖驅(qū)動和GDS驅(qū)動方法。
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+ @, S. E2 z) Q8 H+ b% a# |) c" z$ hpVerify設(shè)計規(guī)則檢查解決方案的優(yōu)勢
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圖10：pVerify作為設(shè)計規(guī)則檢查解決方案的主要優(yōu)勢概述，突出其效率和成本效益。
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PIC Studio的pVerify提供多個主要優(yōu)勢：
全面的設(shè)計規(guī)則檢查套件確保設(shè)計準(zhǔn)確性
1 R' B9 R7 U2 \) _0 ~, H3 A6 S0 v包括布爾運算和密度檢查在內(nèi)的高級功能
, h  h' V2 x8 Z/ m# B早期階段的設(shè)計規(guī)則檢查驗證實現(xiàn)快速問題解決
1 J. B( x# S" }( Z- O與基于Windows的設(shè)計流程無縫集成
所有設(shè)計人員都能使用，促進(jìn)持續(xù)的設(shè)計驗證
與業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)簽核工具（如Calibre）兼容

PIC Studio平臺支持主要光電子芯片代工廠和工藝，確保在行業(yè)內(nèi)廣泛適用。高效的驗證引擎在保持設(shè)計規(guī)則檢查高準(zhǔn)確性的同時實現(xiàn)快速周轉(zhuǎn)。通過這種全面的設(shè)計規(guī)則檢查實現(xiàn)，使設(shè)計人員能夠創(chuàng)建可制造的光電子集成芯片，同時保持高生產(chǎn)力和設(shè)計質(zhì)量。

END


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